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PTL-VM2000 等離子清洗機 實驗室等離子清洗機

參考價面議
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱蘇州汶顥微流控技術股份有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質其他
  • 更新時間2023/6/12 9:19:11
  • 訪問次數442
產品標簽:

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蘇州汶顥微流控技術股份有限公司是一家留學人員回國創業的*企業,集研發、生產、銷售為一體,技術力量雄厚,生產設備*,檢測手段齊全,產品質量過硬。公司建立了完備的微流控芯片研發與生產中心,配置了三條微流控芯片生產線,包括數控CNC微加工儀器,軟刻蝕有機芯片加工系統,光刻-掩模無機芯片加工系統,可以加工生產所有材質的芯片,如玻璃、石英、硅、PDMS和PMMA等。產品涵蓋集成式通用醫療診斷芯片、集成式通用環境保護分析監測芯片、集成式通用食品安全分析檢測芯片和基于微流控芯片的新能源體系四大系列數十個品種,以及各類科研類芯片,并在生物芯片和化學芯片領域一直保持技術和研發的前沿地位,擁有102項知識產權,其中:已申請發明43件,已22件,實用新型51件,6項國家計算機軟件著作權,3項國家注冊商標,獲批*成品3項。蘇州汶顥微流控技術股份有限公司提供的產品和服務按市場可分為科研類芯片、儀器標配芯片、應用類芯片及系統和芯片實驗室解決方案。科研類芯片服務于基于微流控芯片的科研工作者,提供包括聚二甲基硅氧烷(PDMS)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、玻璃及硅基等各種不同材質的微流控芯片的設計與制備,用戶只需配置必要的輔助設備即可使用;儀器標配芯片是針對國內市場上微流控芯片儀器開發的標準芯片,為微流控芯片儀器的核心組件,屬耗材類產品,如毛細管電泳芯片;應用類芯片及系統是利用微流控芯片的技術優勢開發的分析檢測裝置,應用于環保、食品安全、藥物篩選等領域;芯片實驗室解決方案為客戶提供完整的一對一的微流控芯片科研或應用的解決方案,分為產品和科技咨詢兩個方面:產品包括微流控芯片加工、檢測儀器設備配置及微流控芯片配件配置;科技咨詢為客戶提供組建芯片實驗室的整體方案、解決微流控芯片應用中的技術難題、微流控芯片項目研發服務等。按照現代公司制度規范運作企業是公司創辦伊始就秉承的基本理念,目前,公司的團隊結構、人事制度、財務制度、知識產權制度等都已經逐步形成和完善。公司的口號:高品質、高信譽、高效率。公司的宗旨:以發明創新為龍頭,以科技成果轉化為手段,以微流控芯片領域為主戰場,走科研成果商品化,商品產業化,產業規模化和國際化的道路,以自主創新的核心技術為基礎的競爭戰略為企業長期發展戰略,整合產業鏈的各項優勢資源,打造以自主創新為企業特色的產業價值鏈,塑造民族品牌,迎接國際化的挑戰。公司宗旨:以發明創新為龍頭,以科技成果轉化為手段,以微流控芯片領域為主戰場,走科研成果商品化,商品產業化,產業規模化和國際化的道路。企業文化:誠信、踏實、優質!經營理念:以人為本,精誠團結,誠信合作,多邊共贏。價值觀念:追求,勇于創新的企業形象;高效精干,自強不息的隊伍形象; 求真務實,銳意進取的干部形象;外在唯美,內在唯實的產品形象; 嚴細認真,科學規范的管理形象;誠實守信,超越期望的服務形象。企業使命:產業報國、創造價值、服務社會、貢獻人類。企業愿景:做微流控芯片行業的!蘇州汶顥微流控技術股份有限公司以專長造福顧客和社會。并做到人無我有,人有我優,人優我特、人特我精。以市場為營運導向、以質量為競爭前提、以人才為管理核心,持續雙贏,用心服務;以優于國內、國際標準的廠控標準,滿足顧客對產品實物質量的期望和需求。力求把產品做到,以自主創新的核心技術為基礎的競爭戰略為企業長期發展戰略,整合產業鏈的各項優勢資源,全心全意為生命科學服務!我們始終堅持:產品開發創新創先、質量管理精益求精。我們也始終堅信:態度決定一切,細節決定成敗。
PTL-VM2000等離子清洗機可支持8英寸規格產品處理
PTL-VM2000 等離子清洗機 實驗室等離子清洗機 產品信息

一、PTL-VM2000 等離子清洗機設備簡介:

PTL-VM2000等離子清洗機可支持8英寸處理。

PTL 系列低溫等離子表面處理設備由真空腔體及高頻等離子電源、抽真空系統、充氣系統、自動控制系統等部分組成。工作基本原理是在真空狀態下,等離子作用在控制和定性方法下能夠電離氣體, 利用真空泵將工作室進行抽真空達到 30-100pa 的真空度,再在高頻發生器作用下,將氣體進行電離,形成等離子體(物質第四態),其顯著的特點是高均勻性輝光放電,根據不同氣體發出從藍色到深紫色的彩色可見光,材料處理溫度接近室溫。這些高度活躍微粒子和處理的表面發生作用,得到了表面親水性、拒水性、低摩擦、高度清潔、激活、蝕刻等各種表面改性。

等離子處理優點:

1.環保技術:等離子體作用過程是氣- 固相干式反應 ,不消耗水資源、無需添加化學藥劑,對環境無污染。

2.廣適性:不分處理對象的基材類型,均可進行處理,如金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料都能很好地處理;

3.溫度低:接近常溫,特別適于高分子材料,比電暈和火焰方法有較長保存時間和較高表面張力。

4.功能強:僅涉及高分子材料淺表面(10 -1000 埃),可在保持材料自身特性的同時,賦予其一種或多種新的功能;

5.低成本:裝置簡單,易操作維修,可連續運行,往往幾瓶氣體就可以代替數千公斤清洗液,因此清洗成本會大大低于濕法清洗。

6. 全過程可控工藝:所有參數可由電腦設置和數據記錄,進行工藝質量控制。

7. 處理物幾何形狀無限制:大或小,簡單或復雜,部件或紡織品,均可處理。

二、PTL-VM2000 等離子清洗機技術參數

1、設備外形尺寸: 600(W)×540(D)×1550(H)mm

2、真空倉體尺寸: 240(W)*240(H)*400(D) 約 20L

3、倉體結構: 航空鋁合金腔體,內置容式耦合電極,電極尺寸 220(W) ×300(D) mm,5 層。

4、等離子發生器: 德國 PTL 射頻發生器技術,頻率 40khz,功率 0-600W 調節,自動匹配,全電路保護,可連續長時間工作。(風冷)。

5、控制系統:PLC 觸摸屏全自動控制,采用歐姆龍、施耐德等進口品牌電器元件,有手動、自動兩種控制模式,真彩臺達觸摸屏,西門子可編程控制器(PLC),美國產真空壓力傳感系統,可在線監控真空壓力、處理時間、等離子功率等工藝參數,并具有故障報警、工藝存儲等多種功能。在自動模式下設置各項工藝參數,可一鍵啟動,連續重復運行。手動模式用于實驗工藝以及設備維護維修。

6、PTL-VM2000 采用立式結構設計,設備設計緊湊,整體一體化設計,采用全自動控制模式,適合于工廠中小批量產品生產。

三、PTL-VM2000 等離子清洗機工藝流程:

3.1 處理工藝流程

裝入工件→抽真空→沖入反應氣體→等離子放電處理→回沖氣體→取出工件

3.2 工藝控制:

3.2.1 處理時間控制: 1 秒~120 分鐘連續可調。

3.2.2 等離子放電壓力:30~50Pa

3.2.3 功率設定范圍:0~600W 連續可調

3.2.4 兩路工藝氣體流量設定范圍: 氣體 1(0~160ml/min) 氣體 2(0~500ml/min)

3.3 PLC 軟件功能(操控界面)

PTL-VM2000 等離子清洗機

3.3.1 主畫面:實時監視并顯示運行狀態及數據,等離子電源功率、氣體流量、閥門開關、真空

壓力、運行時間等。

3.3.2 參數設置:可設定、修改工藝參數及步驟。

3.3.3 工作狀態:可在線查看真空壓力、等離子功率等數據及狀態。

33.4 故障報警:多種故障檢測、報警及互鎖保護。

四、真空泵:雙級旋片泵

五、場地要求

源:兩相三線,獨立接地,接地電阻≤2Ω。應使用截面積 3mm2以上的接地線將設備接至PE。

真空泵排放氣管:軟管,管徑(內徑)建議將排氣管接至室外。

場地溫度:≤40℃

相對濕度:RH(35-85)%


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