DVIA-MO 系列高精密主動隔振光學(xué)平臺為韓國DAEIL(大一)株式會社生產(chǎn)的主動隔振光學(xué)平臺,由臺面和主動隔振支撐兩部分組成。
臺面采用真蜂窩三層夾心式結(jié)構(gòu),上臺面為熱形變系數(shù)很小的430 系列高導(dǎo)磁鎳合金不銹鋼,臺面按照25mmX25mm 孔距均布M6 螺紋孔,方便安裝儀器,每個螺紋孔下方具有獨立的隔離杯,方便清潔。中間是真蜂窩支撐結(jié)構(gòu),是把0.25 毫米厚度的鋼板加工成蜂巢的結(jié)構(gòu),增加了臺面結(jié)構(gòu)的密度,減小體積,采用*的粘合工藝,堅固耐用。臺面的底部和側(cè)板用碳鋼作為主體材料,具有非常優(yōu)秀的動態(tài)和靜態(tài)的剛性。
主動隔振支撐部分主要包括了被動隔振機構(gòu)和主動隔振器DVIA-M,每個支撐里面一般會有4 個DVIA-M 系列主動隔振器和一臺主控箱。主動隔振器包含了采集信號的傳感器和消除振動的驅(qū)動器,主要消除0.5-10Hz 的外部振動, 被動隔振系統(tǒng)部分同時承擔(dān)著支撐負載和隔絕高頻率振動的作用。
這個系列的平臺可以在低頻范圍(0.5-10Hz)提供非常隔振性能,它可以應(yīng)用于很多對振動要求非常高,甚至具有挑戰(zhàn)的領(lǐng)域,比如高分辨率的光譜儀、高分辨率電子顯微鏡和精密納米科學(xué)研究和制備等。
細節(jié)說明:
應(yīng)用案例
光學(xué)平臺隔振性能參數(shù):主動隔振光學(xué)平臺DVIA-MO系列技術(shù)指標:
型號 | DVIA-M1000 | DVIA-M2000 | DVIA-M3000 | |
尺寸 | 隔振器(mm) | 215x215x180 | 232x232x180 | 308x308x180 |
控制器(mm) | 334x357x120 | 334x357x120 | 334x357x120 | |
*大負載(kg) | 1500-3500 | 1500-3500 | 1500-3500 | |
重量(kg) | 15 | 15 | 15 | |
驅(qū)動方式 | 電機驅(qū)動 | |||
隔振自由度 | 6個自由度 | |||
隔振效率 | 95%-99%at 10Hz | |||
回復(fù)時間 | <0.5Sec | |||
驅(qū)動器推力 | 豎直>20N,水平>40N | |||
輸入電壓 | AC 85-264/50-60Hz | |||
功率消耗 | 峰值功率110W,穩(wěn)定功率50W | |||
空氣壓力 | 大于0.5Mpa | |||
環(huán)境要求 | 溫度℃ | 5-50°C | ||
濕度 | 20%-90% | |||
主動隔振頻率范圍 | 0.5-100Hz | |||
初始水平調(diào)整 | 自動調(diào)整 | |||
系統(tǒng)配置 | 4個隔振器包含控制箱 |
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