西格馬實驗室石墨烯CVD由管式爐+真空系統+混氣系統+水冷系統組成 ,石墨烯CVD管式爐溫度可以達到1200度(可定制),可以是單溫區、雙溫區、三溫區等,極限真空可以達到10-3Pa,供氣系統是流量調節可以是質子流量計或浮子流量計,混氣路數可以是2路、3路、4路、5路相混合。
SGM CVD-1200管式爐采用摻鉬合金加熱絲為加熱元件,采用雙層殼體結構和宇電控溫儀表,能進行30段程序控溫,移相觸發、可控硅控制,爐膛采用日本進口氧化鋁多晶纖維材料,具有溫場均衡、表面溫度低、節能等優點。
軟件控制系統:該爐配有通訊接口和軟件,可以直接通過電腦控制爐子的各個參數,并能從電腦上觀察到爐子上PV和SV溫度值和儀表的運行情況,爐子的實際升溫曲線電腦會實時繪出,并能把每個時刻的溫度數據保存起來,隨時可以調出。
石墨烯CVD爐用途:
可在片狀或類似形狀樣品表面沉積SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、納米硅、SiC、類金剛石等多種薄膜,并可沉積p型、n型摻雜薄膜。沉積的薄膜具有良好的均勻性、致密性、粘附性、絕緣性。廣泛應用于刀具、高精模具、硬質涂層、裝飾等領域。
石墨烯CVD爐參數:
電爐名稱:西格馬石墨烯CVD
電爐型號:SGM-CVD1200
額定溫度:1200℃
工作溫度:≤1100℃
加熱元件:合金加熱絲
氣路控制:浮子流量計/質量流量計
真空系統:旋片泵/擴散泵/分子泵
可選配件:水冷機/數顯真空計
溫控方式:智能化30段PID微電腦可編程控制
溫控保護:具有超溫及斷偶報警功能
熱電偶:K型
爐膛材質:高純氧化鋁多晶纖維
加熱速率:0-20℃/分
恒溫精度:±1℃
極限真空:6.0×10-5Pa
工作真空:7.6×10-4Pa
均勻性:±5℃
爐殼結構:雙層殼體帶風冷系統
額定功率:4Kw
供電電源:110-480V 50/60Hz
售后服務:12個月質保,終身保修(易損件除外)