去離子水設備主要采用預處理、反滲透技術、EDI、混床、拋光床等工藝流程，能將水中的導電介質幾乎全部取出，又能將水中不離解膠體物質、氣體和有機物去除。適用于電子光電、化工冶金、電廠鍋爐、電鍍涂裝行業；精密機械、汽車工業及醫藥純化水等行業。

去離子水設備工藝流程

去離子水設備技術原理

    EDI (連續電解除鹽技術) :是一種將離子交換技術、離子交換膜技術和離子電遷移技術相結合的純水制造技術，除鹽率高達99%，可以生產出電阻率高達15MΩ. CM以上的超純水。

    FEDI：獨立的分段設計，進水要求低，產水電導率40us/cm以下既可以滿足供水要求，產水導電率可達0. 1us/cm以下，濃水可回收至反滲透系統，綜合回收率高達90%-95%。

    拋光混床：一般情況用在工藝末端，用來進一步提高產水水質。采用高交換容量、充分再生、無化學析出的核子級樹脂，去除純水中殘余的微量帶電離子及弱電解質，使水質達到18MΩ. CM以上。

去離子水處理設備特性

    1、產水水質高，出水穩定，連續不間斷制水，不因再生而停機

    2、自動化程度高，遇故障立即自停，具有自動保護功能

    3、*的膜保護系統，可自動沖洗，延長膜使用壽命，能耗低，水利用率高，運行費用及維修成本低

    4、去離子水設備結構緊湊，占地面積小，節省基建投資