無塵凈化工程介紹
無塵凈化工程重要的作用在于控制產品(如硅片等)與空氣接觸的空氣保持清潔度和溫濕度，以使產品能夠在良好的環境空間生產、制造，該空間我們稱之為潔凈室。根據國際上的慣例，無塵凈化水平主要由每立方米空氣中微粒的粒徑大于分度標準來確定。這就是說，無塵并不是99%沒有塵埃，而是被控制在非常微量的單位上。對于光學構造來說，這一標準中對塵埃標準的粒子，相對于普通塵埃來說已經微不足道了，但對于光學構造來說，即使是一點塵埃也會產生很大的負面影響，因此，無塵是光學構造產品的必然要求。
控制微塵量小于0.3微米，每立方米應控制在3500微米以下，達到國際無塵標準。適用于晶片級生產和加工的無塵標準對粉塵的要求高于，這種高標號主要用于某些等級的芯片生產。
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