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廣電計(jì)量檢測(cè)集團(tuán)股份有限公司

SFEQ-1型超臨界二氧化碳清洗裝置

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱南通儀創(chuàng)實(shí)驗(yàn)儀器有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2022/9/7 15:51:39
  • 訪問次數(shù)175
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南通儀創(chuàng)實(shí)驗(yàn)儀器有限公司座落于江蘇省海安市南莫鎮(zhèn)工業(yè)集中區(qū)(黃陳村),是以設(shè)計(jì)、 制造超臨界流體裝置和石油科研儀器為主的新型技術(shù)企業(yè)。產(chǎn)品用于新材料、新能源以及國(guó)防、醫(yī)藥、食品、石油化工等領(lǐng)域。長(zhǎng)期以來(lái),企業(yè)始終堅(jiān)持'創(chuàng)新進(jìn)取,與時(shí)俱進(jìn)"的發(fā)展方針,專注于產(chǎn)品的拓展、升級(jí)。利用成熟的智能科技和現(xiàn)代化儀器設(shè)計(jì)理念,不斷優(yōu)化產(chǎn)品的工藝、性能,提升產(chǎn)品的綜合競(jìng)爭(zhēng)力。經(jīng)多年的堅(jiān)實(shí)運(yùn)營(yíng),企業(yè)在超臨界流體應(yīng)用和石油行業(yè)等方面積累了富、繢經(jīng)驗(yàn),先后形成具有很強(qiáng)競(jìng)爭(zhēng)力的產(chǎn)品,如超臨界氣凝膠干燥、超臨界萃取、超臨界清洗、水氧化、反應(yīng)等系列產(chǎn)品。“注重細(xì)節(jié),精益求精是企業(yè)一貫的作風(fēng),在開拓提升產(chǎn)品的同時(shí),企業(yè)注重產(chǎn)品的細(xì)節(jié)掌控,嚴(yán)格按照IS09001: 2015質(zhì)管理體系要求進(jìn)行產(chǎn)品的過(guò)程和成品檢驗(yàn),保證產(chǎn)品安全可靠、質(zhì)量穩(wěn)定。牢記"產(chǎn)品的安全質(zhì)量,從每個(gè)細(xì)節(jié)抓起”。在提高自身創(chuàng)新能力的同時(shí),企業(yè)不斷加強(qiáng)與國(guó)內(nèi)科研單位的合作,先后與北京大學(xué)、國(guó)防科技大學(xué)、軍事防化研究院、北京理工大學(xué)、北京化工大學(xué)、北京工業(yè)大學(xué)、同濟(jì)大學(xué)、中國(guó)大學(xué)、東華理工大學(xué)、中國(guó)航天科工六院、中國(guó)工程物理研究院、國(guó)核電運(yùn)等科研院所建立協(xié)同合作關(guān)系。團(tuán)結(jié)、創(chuàng)新、實(shí)、奮進(jìn)是企業(yè)矢志不渝的追求。企業(yè)倍加珍惜每位用戶的認(rèn)同,持"- -、戶至上、以質(zhì)興業(yè)、以優(yōu)取勝"的經(jīng)營(yíng)宗旨,不斷交予用戶優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品,與用戶優(yōu)勢(shì)互補(bǔ)、攜手共進(jìn)!
超臨界萃取設(shè)備
超臨界二氧化碳無(wú)損傷清洗設(shè)備。應(yīng)用此設(shè)備對(duì)硅片進(jìn)行清洗的顆粒明顯減少,且平均粒徑小于傳統(tǒng)清洗的粒徑。相對(duì)用等離子法清洗,該方法不會(huì)對(duì)硅片造成損傷,同時(shí)可減少工藝步...
SFEQ-1型超臨界二氧化碳清洗裝置 產(chǎn)品信息

  超臨界二氧化碳無(wú)損傷清洗設(shè)備。應(yīng)用此設(shè)備對(duì)硅片進(jìn)行清洗的顆粒明顯減少,且平均粒徑小于傳統(tǒng)清洗的粒徑。相對(duì)用等離子法清洗,該方法不會(huì)對(duì)硅片造成損傷,同時(shí)可減少工藝步驟,節(jié)省時(shí)間,提高工作效率。

  超臨界二氧化碳無(wú)損傷清洗設(shè)備擁有良好的溫度和壓力控制系統(tǒng),并配有遠(yuǎn)程智能化操作系統(tǒng),是一個(gè)適合高校和科研機(jī)構(gòu)的半導(dǎo)體工藝平臺(tái)。該設(shè)備有望解決微電子行業(yè)清洗工藝中的許多難題,例如刻蝕以及灰化后高縱深比結(jié)構(gòu)清洗、刻蝕以及灰化后多孔低介電材料清洗、清洗后干燥、半導(dǎo)體器件金屬顆粒的清洗等

  超臨界超聲清洗目前應(yīng)用領(lǐng)域是核電特種清洗、電子電路芯片的清洗以及精密機(jī)加工件的表面和層隙清洗。

  小型清洗裝置,利用超臨界二氧化碳的鉆透攜帶能力,對(duì)清洗物表面和深縫隙進(jìn)行大流量沖洗,并攜帶分離收集,二氧化碳實(shí)現(xiàn)循環(huán)使用。整個(gè)清洗過(guò)程在一密閉回路中進(jìn)行,對(duì)環(huán)境無(wú)污染,清洗物表面質(zhì)量好。

標(biāo)

序號(hào)

項(xiàng)目名稱

性能參數(shù)

1

工作壓力

≤35MPa

2

工作溫度

室溫~90℃

3

清洗釜

1L/35MPa           

4

清洗工裝

塔式鎖緊結(jié)構(gòu)2-24片

5

回收釜

1L+1L /30MPa

6

制冷系統(tǒng)

2400kcal/h 溫控范圍:-5℃~﹢5℃風(fēng)冷,密封循環(huán)

7

二氧化碳儲(chǔ)罐

2L/16MPa

8

二氧化碳泵

4L/h  40MPa      雙柱塞變頻可調(diào)

9

電源

AC380V 50Hz   三相五線9kW

設(shè)備優(yōu)勢(shì)

1、清洗工裝采用塔式結(jié)構(gòu),并設(shè)置均布系統(tǒng),保證每片樣品都與高速清洗流體接觸;

※注:清洗釜體結(jié)構(gòu)以及工裝結(jié)構(gòu)均以實(shí)際樣品為依據(jù)設(shè)計(jì)、配置。


關(guān)鍵詞:清洗設(shè)備 芯片
產(chǎn)品對(duì)比
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