PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。
產品用途:
溫度范圍寬;濺射區域長;整管可調;精致小巧,性價比高,可實現快速升降溫,是實驗室生長薄膜石墨烯,金屬薄膜,陶瓷薄膜,復合薄膜等的理想選擇,也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用。
產品參數:
產品名稱 | 1200℃PECVD系統 | |
產品型號 | KJ-PECVD-1200-50*300-F3 | |
加熱系統 | 顯示 | LED |
溫度 | 1200℃ | |
長期工作溫度 | ≤1100℃ | |
升溫速率 | 0~15℃/min (max. 20℃/min) | |
溫區 | 300mm | |
加熱元件 | 鉬棒 | |
熱電偶 | K type | |
溫度均勻性 | ±1℃ | |
爐管尺寸 | 60 x 1200mm | |
材質:氧化鋁 | ||
溫度控制 | 通過可控硅功率控制進行PID自動控制 | |
加熱過程 | 30步可編程 | |
電壓 | 220V,50 Hz,單相 3KW | |
工作壓力 | 0.02MPa | |
真空系統 | 旋片泵 包括 KF25 適配器、真空泵組波紋管和帶輪子的移動柜。 | 冷態極限真空10Pa。 |
真空計 | Inficon 數顯真空計 | |
真空法蘭 | 帶閥門和針頭的不銹鋼真空法蘭 | |
質量流量計 | 流量范圍 | CO2(流量范圍:0-200 sccm CH4(流量范圍:0-200 sccm) N2 流量范圍(流量范圍:0-200 sccm) |
準確性 | ±1.5 % F.S. | |
重復精度 | ±1.5 % F.S. | |
響應時間 | ≦10sec | |
工作壓差范圍 | 0.1~0.5MPa | |
耐壓性 | 3MPa | |
溫度系數 | 零:≤±0.2% F.S./℃; 跨度:≤±0.2% F.S./℃ | |
工作環境溫度 | 5~45℃ | |
輸入信號 | 0 V ~ +5.00 V | |
輸出信號 | 0 V ~ +5.00 V | |
等離子射頻發生器 | 輸出功率:0 -300W可調,±1%穩定性 射頻頻率:13.56 MHz ±0.005% 穩定性 反射功率: 120W 電源穩定性指標:±0.1% 匹配:自動 噪音:<50 分貝。 整體效率:≧70% |
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