PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。 該系統廣泛應用于沉積高質量、SiO2薄膜、Si3N4薄膜、SiC薄膜、硬質薄膜、光學薄膜和炭納米管（CNT）、石墨烯材料等，是科研機構和大學實驗室的理想產品。
產品介紹：
該設備是一款定制的PECVD系統，增加了傾斜、旋轉功能。該系統包含等離子射頻電源，高溫管式爐，4通道質量流量供氣系統和分子泵機組。可用于生長納米或石墨烯材料。
技術參數：
| 產品名稱 | 定制旋轉PECVD系統 |
| 滑軌管式爐部分 | |
| 產品型號 | KJ-T1200-S80-DZPECVD-R |
| 爐管尺寸 | 80*長度1600mm 可選其他直徑Φ50，60，80，100，120，150mm |
| 爐管材質 | 石英管 |
| 加熱區 | 單溫區，溫區長度400mm |
| 工作溫度 | 1100℃ |
| 溫度 | 1200℃ |
| 溫控方式 | K型熱電偶 |
| 控制方式 | 觸屏控制 |
| 控溫精度 | ±1℃ |
| 溫控保護 | 具有超溫和斷偶保護功能 |
| 升溫速率 | 0-20ºC/min可調 ，建議10ºC/min |
| 加熱元件 | 含鉬電阻絲 |
| 工作電壓 | AC 220V 單相 50HZ （電路電壓用戶可選擇定制） |
| 加熱功率 | 3KW |
| 爐膛材料 | 氧化鋁多晶纖維 |
| 法蘭接頭 | 標配配有不銹鋼真空法蘭，已安裝機械壓力表和不銹鋼截止閥 |
| 密封系統 | 該爐爐管與法蘭之間采用硅膠O型圈擠壓密封、撤卸方便、可重復撤卸，磁流體密封，氣密性好可實現爐管旋轉過程中的高真空。 |
| 真空系統部分 | |
| 主要參數 | 采用高真空分子泵組，爐管內真空度可達10-3pa |
| 氣路系統部分 | |
| 名稱 | 四路質量流量計（量程可選） |
| 等離子電源部分 | |
| 功率范圍 | 0-500W（連續可調） |
| 售后服務 | 質保一年，終身保修（耗材類：高溫密封圈、爐管、加熱元件等及人為損壞不屬于質保范圍） |
| 更多規格可根據客戶需求定制 | |
1、我公司對所供設備提供質保一年保修服務（易損件除外），在保修期內因設備質量原因造成的設備損壞或故障，均予以免費維修。保修期滿后，仍提供終身的、優質的維修服務。
2、在設備使用過程中如遇故障的，我公司將盡快做出處理方案，確保設備正常運行。
3、我公司設提供免費的設備操作培訓和簡單故障排除維修培訓。
4、我公司技術人員可提供(產品安裝調試、整機維護、技術講解及操作指導等)。
5、本公司可提供運輸服務，包裝方式均按照標準安全包裝進行。隨機技術資料齊全（用戶手冊、保修手冊、有關資料及配件、隨機工具等）。
6、本公司所有產品均有歐盟CE質量認證。
