該系統(tǒng)是一個特殊的雙管CVD系統(tǒng),是專門為在金屬箔上生長薄膜而設計,特別是應用在新一代能源關于柔性金屬箔電極方面的研究。通過滑動爐子可以實現(xiàn)物料的快速加熱和冷卻。
應用范圍:
廣泛應用于半導體工業(yè)中沉積薄膜材料,包括大范圍的絕緣材料,以及大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料、二維材料等,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結等實驗。
技術參數(shù):
產品名稱 | 1200℃雙管滑道式CVD系統(tǒng) |
部分: 1200度滑道雙管雙溫區(qū)管式爐 | |
產品型號 | 1200度滑道管式爐 |
爐管尺寸 | 雙石英管 外管:OD 100 x ID 96 x 1400 mm 內管:OD 80 x ID 75 x 1800 mm |
加熱區(qū) | 220+220mm |
供電電源 | 230V,單相,50HZ |
功率 | 4.0 kw |
加熱元件 | 電阻絲 |
升溫速率 | 0-20°C/min |
熱電偶 | K型 |
第二部分: 水冷系統(tǒng) | |
法蘭 | 1.水冷機 CW-3000 2.水冷,密封雙管的真空法蘭:允許反應氣體通過兩管之間(10mm間隙)發(fā)生反應,冷卻氣體直接通入內管. |
第三部分 真空系統(tǒng) | |
真空系統(tǒng) | 1. 防腐數(shù)顯真空計 2. VRD-16旋片泵,抽速4L/S,含擋板閥 KF25接口,波紋管和箱體 |
第四部分 混氣系統(tǒng) | |
質量流量計 量程: MFC 1: 0~10 sccm MFC 2: 0~200 sccm MFC 3: 0~10 slm MFC 3: 0~10 slm ....... |
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