產品介紹：
該系統以含鉬電阻絲為加熱元件，采用雙層殼體結構和30段程序控溫儀表，移相觸發、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，爐管兩端能不銹鋼法蘭密封，不銹鋼法蘭上安裝有氣嘴、閥門和壓力表，真空泵接口，具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節能等優點。
結構組成：
定制立式PECVD設備，由真空立式管式爐、石英真空室、射頻電源、供氣系統、真空測量系統組成。

主要特點：
     1、通過射頻電源把石英真空室內的氣體變為離子態。
     2、PECVD比普通CVD進行化學氣相沉積所需的溫度更低。
     3、可以通過射頻電源的頻率來控制所沉積薄膜的應力大小。
     4、PECVD比普通CVD進行化學氣相沉積速率高、均勻性好、一致性和穩定性高。
     5、廣泛應用于：各種薄膜的生長，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和無定型硅(a-Si:H) 等。

應用范圍：
    PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。 該系統廣泛應用于沉積高質量、SiO2薄膜、Si3N4薄膜、SiC薄膜、硬質薄膜、光學薄膜和炭納米管（CNT）、石墨烯材料等。

技術參數：

 1、我公司對所供設備提供質保一年保修服務（易損件除外），在保修期內因設備質量原因造成的設備損壞或故障，均予以免費維修。保修期滿后，仍提供終身的、優質的維修服務。
 2、在設備使用過程中如遇故障的，我公司將盡快做出處理方案，確保設備正常運行。
 3、我公司設提供免費的設備操作培訓和簡單故障排除維修培訓。
 4、我公司技術人員可提供(產品安裝調試、整機維護、技術講解及操作指導等)。
 5、本公司可提供運輸服務，包裝方式均按照標準安全包裝進行。隨機技術資料齊全（用戶手冊、保修手冊、有關資料及配件、隨機工具等）。
 6、本公司所有產品均有歐盟CE質量認證。