污水處理廠中，曝氣單元約占整個處理廠總能耗的50%-70%，曝氣不僅為好氧微生物的生長與污染物降解提供了必需的氧氣，也承擔了攪拌的作用。曝氣系統的充氧性能受到活性污泥性質、曝氣器品質、運行工況等的綜合影響。因此氧的科學管理是十分必要的。設備中的新型攪拌系統采用流體力學設計，大限度地將流體特性與機械運動相結合，并且能適應不同情況下的水體流動和污泥性質。攪拌器工作過程中，水流在池壁的反射作用下，形成自上而下地循環水流，可獲得在軸向與徑向方向的交叉水流，能有效消除攪拌死角，防止污泥沉降，并可強化氧傳質效果。 

G閉式/F開式型暖通循環水旁流水處理器：當水體接受高頻電磁能量的作用后，單個水分子包容了溶解在水中氧分子，使溶解氧成為惰性氧，切斷了金屬銹蝕所需氧的來源。同時，高頻電磁波激起的懸垂復合調制頻率的電磁場所產生的“集膚效應”在管壁上聚集了過剩的負正荷，而水內部聚集了剩的正電荷，水中的過剩的正電荷，強烈排斥帶正電的同性Fe⁺,阻止Fe失去電子變為Fe⁺,從金屬管壁分離進入水中,(系統中產生的黃色銹水就是Fe⁺在水中呈現的顏色)。同時管壁上過剩的負電子也不斷吸引帶正電的Fe⁺,阻礙Fe⁺溶入水中,從而能使原有管壁上的Fe₂O₃(紅銹)還原成具耐腐蝕力的黑銹外膜Fe₃O₄。活性氧在管壁上生產氧化被膜，阻止管道腐蝕，運行中活性氧對水管壁持續鍍膜、鈍化。微生物腐蝕、沉積腐蝕被抑制。

G閉式/F開式型暖通循環水旁流水處理器：GD-‖系列旁流循環水處理器是在原有的全流式水處理器的基礎上開發的新一代產品，產品采用脈沖式低壓電場的原理，根據水質的變化自動調整工作輸出信號。水處理器處理后，水分子聚集度降低，結構發生變化，如水分子的偶極距增加，極性增加，表面張力增大，從而增大了水分子的溶垢能力，達到除垢的目的。在電極作用下，處理器產生大量具有優異防垢功能的微小晶體，這些晶體可以除去水中的成垢離子，形成疏松的文石晶體，經自動排污閥排除。經處理器處理過的水，溶解氧得到活化，在電極的電解下，水中產生大量的OHˉ、O2ˉ、H2O2 及大量活性氧物質，這些物質具有強氧化性，可*殺滅水中微生物及各種藻類，從而達到優良的殺菌滅藻功能，防止垢的形成。同時，處理器產生的大量活性氧對系統管壁進一步氧化，形成一層致密的氧化膜，如四氧化三鐵氧化膜，將系統管壁鈍化，從而抑制了管道的腐化，增加了系統發使用壽命，達到設備防腐的效果。

：在電極作用下，處理器產生大量具有優異防垢功能的微小晶體，這些晶體可以除去水中的成垢離子，形成疏松的文石晶體，經自動排污閥排除。經處理器處理過的水，溶解氧得到活化，在電極的電解下，水中產生大量的OHˉ、O2ˉ、H2O2 及大量活性氧物質，這些物質具有強氧化性，可*殺滅水中微生物及各種藻類，從而達到優良的殺菌滅藻功能，防止垢的形成。同時，處理器產生的大量活性氧對系統管壁進一步氧化，形成一層致密的氧化膜，如四氧化三鐵氧化膜，將系統管壁鈍化，從而抑制了管道的腐化，增加了系統發使用壽命，達到設備防腐的效果。微晶旁流水處理器是在原有的全流式水處理器的基礎上開發的新一代產品，產品采用脈沖式低壓電場的原理，根據水質的變化自動調整工作輸出信號。水處理器處理后，水分子聚集度降低，結構發生變化，如水分子的偶極距增加，極性增加，表面張力增大，從而增大了水分子的溶垢能力，達到除垢的目的。

 設備中的新型攪拌系統采用流體力學設計，zui大限度地將流體特性與機械運動相結合，并且能適應不同情況下的水體流動和污泥性質。攪拌器工作過程中，水流在池壁的反射作用下，形成自上而下地循環水流，可獲得在軸向與徑向方向的交叉水流，能有效消除攪拌死角，防止污泥沉降，并可強化氧傳質效果。