高真空鍍布設(shè)備是由真空系統(tǒng)、卷繞系統(tǒng)、磁控靶濺射系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等部分組成,抽速快、排氣量大、真空度高、能耗較低,集效率高、穩(wěn)定、節(jié)能于一身,可實(shí)現(xiàn)在布、海綿等卷材上濺鍍銅、鉻、鈦、銀等,無褶皺,保障了產(chǎn)品質(zhì)量。
它是一種應(yīng)用于紡織品行業(yè)、電子行業(yè)的鍍布、鍍海綿設(shè)備,包括如下幾個(gè)步驟:準(zhǔn)備靶材,采用磁控濺射鍍布設(shè)備進(jìn)行真空鍍,可設(shè)置銅靶、鈦靶、銀靶等多種靶材,進(jìn)行多靶位或者單靶位的濺射鍍覆,鍍布卷速為1~15米/分鐘,布匹鍍寬為500~1700mm,卷徑可達(dá)到Φ500~Φ1300mm,成品無褶皺,保障產(chǎn)品質(zhì)量,保障布匹、海綿等卷材的剛?cè)嵝浴⒖刹眉艉涂p紉性等,可規(guī)模化應(yīng)用于紡織品行業(yè)、電子行業(yè)。
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