光學鍍膜機是指在光學零件表面涂覆一層（或多層）金屬（或介質）薄膜的過程。光學零件表面涂層的目的是減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的涂層方法有真空涂層（一種物理涂層）和化學涂層。涂層的目的是改變材料表面的反射和透射特性。

　　光學鍍膜機在可見光和紅外波段，大多數金屬的反射率可達78%～98%，但不高于98%。無論是用銅、鉬、硅、鍺作反射鏡，還是用鍺、砷化鎵、硒化鋅作輸出窗口和傳輸光學元件材料，還是用普通光學玻璃作反射鏡、輸出鏡和傳輸光學元件材料，均不能達到要求。由于輸出鏡在不同的應用場合有不同的透射率要求，因此需要采用光學鍍膜的方法。對于CO2激光燈的紅外波段，常用的涂層材料有氟化釔、氟化鐠、鍺等；對于YAG激光燈的近紅外波段或可見光帶，常用的涂層材料有硫化鋅、氟化鎂、、氧化鋯。等。除了高反射膜和減反射膜外，還可以涂上一層不一樣的膜，可以加強某一波長的反射和另一波長的透射，如激光倍頻技術中的光譜膜。光干涉在薄膜光學中的應用。光學薄膜技術常用的方法是在玻璃基片上真空濺射鍍膜，一般用來控制基片入射光束的反射率和透射率，以達到不同的需要。為了消掉光學元件表面的反射損耗，提高成像質量，在光學元件表面涂覆一層或多層透明介質膜，稱為減反射膜。隨著激光技術的發展，對薄膜的反射率和透射率提出了不同的要求，促使了多層高反射膜和寬帶減反射膜的發展。在許多應用中，偏光反射膜、彩色光譜膜、冷光膜和干涉濾光片都是用高反射膜制作的。
　　光學鍍膜機在光學零件表面涂層后，光在薄膜層上多次反射和透射，形成多光束干涉。控制薄膜的折射率和厚度，可以得到不同的光強分布，這是干涉鍍膜的基本原理。光學薄膜是在高真空度的鍍膜腔中實現的。傳統的鍍膜工藝要求提高基體溫度（通常在300℃左右），而離子輔助沉積（iad）等工藝可以在室溫下進行。