概要
CS-153N是一款高精度的化學藥液濃度計，適用于半導體制造中濕法蝕刻制程的嚴苛要求。蝕刻制程使用FPM藥液刻蝕二氧化硅和去除晶圓表面的顆粒。CS-153可持續監測FPM藥液(HF/H2O2/H2O)中各個成分，在每一次藥液需要替換或補充時向用戶發出信號。因此可使FPM藥液的濃度保持在一個適當的范圍中并可避免不必要的藥液替代
特征
- 監測周期大約為3秒，支持300mm工藝的濃度管理
實現了以大約2秒為監測周期(*)的高速響應。支持向批次式和單槽式清洗裝置定時反饋濃度信息。
*不包含藥液的置換時間、冷卻時間
- 小巧化設計有利于節省清洗裝置的空間由于底面面積只有原來的2/3(*)左右，這種小巧化設計有利于清洗裝置節省空間?？梢院苋菀椎亟M裝到清洗裝置中。
*和本公司產品CS-327系列進行比較
- 通過減少清洗工藝中的批次不良，提高產量
通過濃度計的信號輸出，進行HF/HNO3溶液的補給控制，從而實現高再現性的清洗。減少清洗工藝中的批次不良，從而推進產量的全面提高。
- 全自動監測與簡易控制
用戶只需引入HF/HNO3溶液即可。監測是全自動方式，因此開始監測后不需要進行任何控制。另外，由于參照光譜測量時使用的是空氣，所以不需要用水。
- 通過采取全面的氣泡對策
在脫泡槽中分離氣泡，在監測過程中進一步利用電磁閥把氣泡混入監測單元內的發生次數抑制在限度。
- 采用DC24V，實現高安全性
電源采用DC24V低壓電，提高了安全性以避免觸電事故的發生。并且，由于內置漏水傳感器，在發生漏水時可以切斷HF/HNO3溶液的供應等，采取緊急措施。
