日本sanmei納米壓印設備ImpFlex Essential
低價UV納米壓印設備ImpFlex Essential
納米壓印光刻作為下一代微細加工技術受到關注，它 比傳統光刻具有更高的小型化、更低的成本和更高的產量。
該設備是在型號 ImpFlex 基礎上*降低成本的低價型號。
以低廉的價格實現低殘膜和均勻膜厚的壓印引擎，繼承自上層。
1. 搭載ImpFlex通用的壓印引擎，殘膜少，膜厚均勻性高！
2. *降低成本，實現低價！
3.支持消泡氣工藝！
4.兼容各種模具！
5. 豐富的選項可以升級！
日本sanmei納米壓印設備ImpFlex Essential
納米壓印光刻作為下一代微細加工技術受到關注，它 比傳統光刻具有更高的小型化、更低的成本和更高的產量。
該設備是在型號 ImpFlex 基礎上*降低成本的低價型號。
以低廉的價格實現低殘膜和均勻膜厚的壓印引擎，繼承自上層。
1. 搭載ImpFlex通用的壓印引擎，殘膜少，膜厚均勻性高！
2. *降低成本，實現低價！
3.支持消泡氣工藝！
4.兼容各種模具！
5. 豐富的選項可以升級！
特征
1.實現高精度結構轉移
具有*并聯機構的“軟載物臺”實現了精細的轉印操作，可最大限度地減少轉印缺陷和納米級圖案形成。此外，新開發的 LED 光源可實現均勻的紫外線照射，并實現低邊緣粗糙度。
2.支持消泡氣工藝
該設備與消泡氣體工藝兼容（可選）。
即使在大氣印記中，氣泡消除氣體工藝也可以抑制氣泡缺陷的發生。
即使在大氣印記中，氣泡消除氣體工藝也可以抑制氣泡缺陷的發生。
3.兼容各種模具
模具尺寸 □ 可以從 10 mm 轉移到最大 90 mm。
除石英外，還可以選擇使用其他材料，例如電鑄鎳。
除石英外，還可以選擇使用其他材料，例如電鑄鎳。
