超純水，又稱UP水，電阻率達到18MΩ*cm(25℃)的水。常用于集成電路工業(yè)中用于半導(dǎo)體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制備和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固態(tài)電子器件、厚膜和薄膜電路、印刷電路、真空管等的制作也都要使用超純水。
超純水處理:既將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎*去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機物均去除至很低程度的水。電阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm極限值(25℃)。
超純水處理，是一般工藝很難達到的程度，采用預(yù)處理、反滲透技術(shù)、超純化處理以及后級處理四大步驟，多級過濾、高性能離子交換單元、超濾過濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法，電阻率方可達18.25MΩ*cm(25℃)。
超純水是美國科技界為了研制超純材料(半導(dǎo)體原件材料、納米精細陶瓷材料等)應(yīng)用蒸餾、去離子化、反滲透技術(shù)或其它適當(dāng)?shù)某R界精細技術(shù)生產(chǎn)出來的水，這種水中除了水分子(H2O)外，幾乎沒有什么雜質(zhì)，更沒有細菌、病毒、含氯二惡英等有機物，當(dāng)然也沒有人體所需的礦物質(zhì)微量元素。
超純水，主要工藝流程
⒈預(yù)處理----復(fù)床 ----混床---拋光樹脂
⒉預(yù)處理----反滲透---混床---拋光樹脂
⒊預(yù)處理----反滲透----CEDI膜塊----拋光樹脂
傳統(tǒng)超純水制取設(shè)備工藝流程:原水-多介質(zhì)過濾器-活性炭過濾器-一級除鹽-混床-超純水
膜法超純水制取設(shè)備工藝流程:原水-超濾-反滲透-EDI-超純水
在膜法工藝中，超濾，微濾替代澄清，石英砂過濾器，活性炭過濾器，除去水中的懸浮物膠體和有機物，降低濁度，SDI，COD等，可以實現(xiàn)反滲透裝置對污水回用的安全，高效運行，以反滲透替代離子交換器脫鹽，進一步除去有機物，膠體，細菌等雜質(zhì)，可以保證反滲透出水滿足EDI進水的要求，以EDI代替混床深度脫鹽，利用電而不是酸堿對樹脂再生，避免了二次污染。
