等離子光氧凈化設備適用廢氣種類：

等離子光氧凈化設備適用于：丙酮、丁酮、乙酸乙酯、VOC 、甲醛、乙醛、乙酸乙酯、苯系物、 苯、甲苯、二甲苯、苯乙烯、烷烴、烯烴、炔烴、芳香烴、酚、硫化氫、硫醇、硫醚、氨、胺、吲哚、硝基等臭氣和廢氣。

等離子光氧凈化設備注意事項：

1、惡臭物質能否被裂解，取決于其化學鍵能是否比所提供的UV光子的能量要低。

2、裂解反應的時間短(<0.01s)，氧化反應的時間需2-3s。

3、提供的UV光子總功率不夠或者含氧量不足，會因為裂解或氧化而生成一些中間副產物，從而影響凈化效率。對于大分子的惡臭物質體現得較為明顯。

4、UV光解凈化的長期穩定，需要反應溫度<70℃，粉塵量<100mg/m3。

5、條件滿足的情況下，UV光解凈化的凈化效率還不錯。

對于某些化合物的部分化學鍵鍵能高于所提供的UV光子能量，如甲醛的“C=O”鍵的鍵能為728kj/mol。目前我們所提供的UV光子的能量為704kj/mol(正在742kj/mol和800kj/mol)。甲醛在170nm的UV紫外光的照射下，會裂解生成游離態的[C=O]*、H*。一部分[C=O]*與03反應生成CO2，一部分[C=O]*在經過與N2等惰性物質碰撞后失去能量，生成CO，臭氧量充足時可將部分CO氧化成CO2 。

如果提供的UV紫外線波長為160nm(742kj/mol)，則反應過程相對就簡單一些：甲醛會被直接裂解成游離態的C*、H*，會被O3直接氧化成CO2和H2O。

以上可見，不同波段的UV紫外線對于同一種物質的光解反應可以是不一樣的，UV紫外線的波長越短，即UV光子能量越高，物質的光解反應就越容易，反之越難，甚至沒效果。

等離子光氧凈化設備適用范圍：除臭設備應用于噴漆廠、噴涂廠、橡膠廠、塑料廠、電子廠、造紙廠、紙漿廠、電路板廠、包裝廠、樹脂廠、油墨廠除臭、醫藥廠、飼料廠、涂裝廠、紡織服裝廠、印染廠、養殖屠宰廠、肉類加工廠、污水處理廠、垃圾處理站、污泥干化站除臭、材料廠、瀝青廠、電鍍廠、化肥廠、家具廠、皮革廠、煙草、化工廠、冷凍廠、食品廠、印刷廠、香精廠、汽修廠、酒店、塑料廠、眼鏡廠、石英石材廠、噴涂溶劑等無機物惡臭氣體的脫臭凈化處理。