白光干涉儀AE-100M
產品用途:
結合光學顯微鏡與白光干涉儀功能的掃描式白光干涉顯微鏡,結合顯微物鏡與干涉儀、不需要復雜光調整程序,兼顧體積小、納米分辨率、易學易用等優點,可提供垂直掃描高度達400um的微三維測量,適合各種材料與微組件表面特征和微尺寸。應用領域包含:玻璃鏡片、鍍膜表面、晶圓、光碟/影碟、精密微機電元件、平面液晶顯示器、高密度線路印刷電路板、IC封裝、材料分析與微表面研究等。
產品特點:
● 納米深度3D
● 高速、無接觸量
● 表面形狀、粗糙度分析
● 非透明、透明材質皆適用
● 非電子束、非雷射的安全量測
● 低維護成本
級的3D圖形處理與分析軟體(Post Topo)
● 提供多功能又具友好界面的3D圖形處理與分析
● 提供自動表面平整化處理功能
● 提供高階標準片的軟件自校功能
● 深度、高度分析功能提供線型分析與區域分析等兩種方式
● 線型分析方式提供直接追溯ISO定義的表面粗糙度(Rorghness)與起伏度
● (waviness)的測量分析。可提供多達17種的ISO量測參數與4種額外量測數據(Wafer)
● 區域分析方式提供圖形分析與統計分析
● 具有平滑化、銳化與數字過濾波等多種二維快速利葉轉換(FFT)處理功能
● 量測分析結果以BMP 相關產品: