科諾儀器 微量光化學高壓反應釜裝置包含:光源設備、光化學反應釜、光源及釜體溫控攪拌三大模塊組成。用于新能源及環境領域的高溫高壓光化學催化、合成、降解等反應。如:光解水制氫,光催化還原二氧化碳制甲醇,光解水,二氧化碳還原制甲烷、氮氧化物的還原降解、甲醛的高壓光催化降解等。特別適用少量樣品的反應,是昂貴或低產量樣品光催化,降解,還原的理想反應裝置。
科諾儀器 微量光化學高壓反應釜*技術特點:
1、光源可按照客戶要求選擇,采用LCD10.1英吋液晶觸摸控制器,光源光電參數及光化學反應的溫度,攪拌等參數實時數字顯示在屏幕上,國內。
2、更高的使用壓力及溫度設計,普通廠家提供壓力:3mpa,溫度為200℃的設計,巖征公司提供設計壓力于普通廠家4倍的安全壓力釜體設計。
3、更專業的光化學釜體設計:釜體包含壓力表、防爆裝置、進氣閥門、取樣閥門,溫度測溫探桿,耐壓透光視窗6大齊全部件,全方面監控及采集您所需要的技術參數。
4、采用頂入式光源設計,特制防霧雙層JGS2光學級透光視窗,可特別選用藍寶石視窗。
5、嵌入式一體加熱模塊結構,加熱更均勻。釜體、加熱器可*分離。極大的方便了反應釜的拆卸工作,提高工作效率。
6、更全面的光化學反應釜的材質選擇,除了提供普通廠家提供的SU316L材質的釜體外,還提供不銹鋼內襯teflon,鈦材,鎳材,哈氏合金等非標材質釜體的定做。
巖征儀器 微量光化學高壓反應釜型號為:YZ-GHX-HP系列,對應容積分別有10ml,25ml,50ml,100ml,250ml,500ml六款可選。
科諾儀器 微量光化學高壓反應釜技術參數表:
型號 | YZ-GHX-HP系列 |
容 積 | 10、25、50、100、250、500ml可選 |
工作溫度 | 300℃以內 |
工作壓力 | 10mpa以內 |
光源類型 | 紫外及模擬太陽光源 |
透光孔材質 | JGS2光學級石英或藍寶石晶體 |
加熱方式 | 模塊加熱加熱更均勻,釜體,加熱模塊可輕松分離。 |
加熱功率 | 0.5-1KW |
攪拌速度 | 0-1500rpm |
攪拌方式 | 內部磁力攪拌 |
材質 | 標配SU316L,另有哈式合金、鈦材、鋯材、鎳材可選 |
巖征儀器優勢 | 1、國內液晶觸摸控制屏,光源及光化學反應釜參數實時液晶顯示及屏幕上直接修改控制。 |
參數 | 科諾儀器 微量光化學高壓反應釜 | 國內同行業廠家設備 |
光源情況 | 光源采用頂部開孔平行照射式,氙燈采用美國進口PE燈源,另選配100W,300W,500W,1000W汞燈,汞氙燈,氙燈光源。 | 普通光源,光源功率瓦數上不全。 |
容積 | 10-500ml(巖征公司是專業反應釜公司,容積、規格圖紙完善,設計施工一體,可按照客戶需求定制。 | 容積單一,集中在100ml,200ml等一些常用規格上 |
控制部分 | 國內,謹防!液晶觸摸屏操作,PLC程序控制,控制箱體外觀及功能設計已申請,控制系統可控制汞燈,氙燈,金鹵燈等各種實驗光源的點亮,閉合,并且支持燈源穩定時間設置,10.1吋液晶顯示屏實時顯示光源功率、電流、電壓等實驗重要參數,給您的實驗帶來的方便! | 按鈕操作。只能簡單實現光源的點亮及關閉。 |
釜體材質 | 標配316L不銹鋼,另有鈦材,鋯材,蒙乃爾合金,哈氏合金等可選 | 普通不銹鋼 |
通光孔設置 | 防霧耐壓紫外石英視窗,通光孔徑30mm,通光率在92%以上。可選配藍寶石材質或配鍍膜透光耐壓視鏡。 | 石英材質 |
溫度設置 | 采用PID程序控制溫度,控溫范圍:室溫-300℃,另有-30℃-280℃溫度可定做。*環繞式加熱裝置,保證光化學反應中釜內各部分物料的溫度均勻性。 | 控溫均勻性不能保證。 |
壓力設置 | 標準工作壓力10mpa以內,設計壓力為12.5mpa。釜體配壓力表及安全泄壓裝置保證反應安全. | 壓力一般在3mpa,沒有嚴格的試壓標準及規范 |
攪拌控制 | 液晶觸摸屏控制,轉速數字顯示,可控可調。速度:0-1500rpm巖征公司的攪拌集成度高,可控可顯。 | 國內廠家兩種情況,一種是不帶攪拌,一種是釜底放置在磁力攪拌器上 |
通氣設置 | 光化學釜蓋設置有通氣口,可實現光照反應在真空負壓下反應,通氮氣反應,通氧氣反應,通其他氣體反應等。配高溫高壓進口通氣閥門,可通多路氣體。 | 可通低壓氣體,不可多路通氣。 |
取樣設置 | 在光催化高溫高壓情況下(250℃、10mpa),巖征公司*帶壓取液相物料設計,可以在不終止反應情況下進行手動取樣,在線分析。 | 在低溫低壓的情況下,(常溫、0.5mpa)少數廠家可以實現這個功能。 |