NCHc型氣體純化裝置
較高純度氮氣再提純
適用于較高純度原料氣或小氣量規模氮氣純化裝置
高可靠性 高穩定性
擁有自主的*技術，采用*的節能工藝流程，配合使用自制的除氧催化劑，設備運氣更穩定、可靠、使用時間更長；裝置運行穩定性好，可靠性高，常溫常壓下工作，性能好，正常使用、維護下13X分子篩使用時間可達10年以上，除氧催化劑可達5年以上。
程控閥門技術
*的程控閥門，結構緊裝、占空間小、漂亮美觀、開關次數高達200萬次*
占地面積小 運行成本低
裝置工藝流程簡單、結構緊湊、占地面積小、較小空間需求；采用并聯再生——串聯工作*工藝過程，解決了脫氧劑再生后溶解氫的脫附污染純化氣體的技術難題，節省平均約10%產品氣量再生氣排放。
自動化控制 維護簡單
裝置自動化程度高，觸摸屏控制開停機方便快捷，啟動時間短，可遠程控制設備啟停；吸附器結構設計*，氣流的分布相當均勻，接觸時間長，13X分子篩在很大程度上得到利用，可以在不停機下更換脫水干燥劑或進行大檢修
可編程序控制器自動化控制
氮氣純度、流量在線監測
冷干機、過濾器自動排污
備用氮氣自動補充、自動切換
人機界面控制系統
故障報警、自動關閉加氫電磁閥
全自動開停機
原料氣
流量： ≤80Nm3/h
氧含量： ≥99.9%
壓力： 0.5MPa～1.0MPa
氫氣
純度（%）： ≥99%
壓力（MPa）：≥原料氣壓力+0.05MPa
氨分解氫
氧含量： ≤10ppm
殘余氨： ≤10ppm
壓力： ≥原料氣壓力+0.05MPa
產品氣
流量： ≤60Nm3/h
純度： ≥99.9999%
氧含量： ≤1ppm
氫含量： ≤1ppm（氫氣純化項目除外）
CO2含量： ≤1ppm
含塵粒徑： ≤0.01μm
含塵量： ≤1mg/m3
常壓露點： ≤-60℃
注：
1. 原料氣指標不在范圍內的項目，請咨詢我司定制。
2. 對產品氣60℃＜常壓露點≤-80℃我司可特殊供貨。
裝置采用化學吸收脫氧技術脫除氣體中的氧雜質，獲取高純氣體。
它適用于原料氣體純度≥99.9%的氣體。通常為深冷空分氧氣站產出的污氮氣體進行進一步脫氧處理，獲取高純（99.9995%～99.9999%N2）氮氣，或者深冷空分制氮設備經多年使用后，產出氮氣純度下降，需要進一步脫氧純化處理，獲取高純氮氣。
由于本純化裝置采用新穎的并聯再生——串聯工作*工藝過程，解決了由于催化劑具有的“溶氫”特性而造成氫氣污染氣體產品的難題，實現高純氣體產品中含氧、氫雜質量均小于1ppm的指標，同時達到既節能又減少純化運行成本，同樣本裝置也適用于NCHa型氣體純化裝置的氣體種類范圍。
NCHc型氮氣純化裝置由普氮預處理系統、吸附干燥系統、電氣控制系統三大部分組成。具體配件有觸摸屏orTD200、氮氣分析儀、流量計、質量流量計、質量流量顯示儀、可編程序控制器、除氧塔、干燥塔、換熱器、過濾器、管道氣動閥、電磁閥。
