OTF-1200X-II-HG是一款雙溫區濕度可控氫氣熱處理爐，此設備帶有兩通道氣體控制器，氣液混合罐，露點儀和氫氣探測器，此設備專門設置對材料進行濕氫處理，以達到材料表面部分氧化，同時也進行各種CVD實驗。精密露點儀測量精度可以達到 +/-1.5%RH。若有實驗中發生氫氣微露現象（氫氣爆炸點的10%），3M公司的氫氣探測器將發生報警信號，使整個實驗在安全的環境下進行。
技術參數
爐體結構 
| - 雙層殼體結構，并帶有風冷系統，使得殼體表面溫度小于60℃
- 采用高純氧化鋁纖維作為爐膛材料，并且表面涂有美國進口的1760度高溫氧化鋁涂層（可延長設備使用壽命和提高加熱效率）
- 開啟式爐體設計，方便更換爐管
- 儀器包括氫氣探測器和蜂鳴報警器，達到安全實驗
- 帶有氣液混合罐，并套有加熱環，控制器控制升降溫
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大功率 | 4KW |
輸入電壓 | AC 208 - 240V 單相 (需要30A 的空氣開關 ) |
加熱元件 | 摻鉬鐵鉻鋁（電阻絲的表面涂有美國進口的高溫氧化鋯涂層，可以提高加熱元件的使用壽命） |
加熱區長度 | - 兩個溫區，每個溫區長度為200mm,
- 總溫區長度:400mm
- 恒溫區：200mm(兩個溫區可設置同樣的溫度）
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高工作溫度 | 1200℃（小于1小時） |
連續工作溫度 | 1100℃ |
建議升溫速率 | 10°C /min |
爐管和法蘭 | - 高純石英管：Φ50 (OD)×Φ44 (ID) ×1000 L, mm
- Φ60 (OD)×Φ54 (ID) ×1000 L, mm
- Φ80 (OD)×Φ74 (ID) ×1000 L, mm
- Φ100 (OD)×Φ94 (ID) ×1000 L, mm
- 304不銹鋼法蘭，上面安裝有機械壓力表和針閥，爐管內真空度可以達到10 - 5 torr（采用分子泵）
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溫控系統 | - 兩個溫區分別由兩個控溫儀表獨立控制，可設置30段升降溫程序。
- 采用PID方式控制升降溫
- 帶有過熱和斷偶保護
- 控溫精度+/- 1 ?C
- 爐體面板上有RS485接口，可額外在本公司購買控溫軟件，可將升溫程序和溫度曲線導入到電腦中
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氣體控制 | - 安裝有兩個50-500ml/min浮子流量計，控制進氣流量
- 一個浮子流量計直接與法蘭相連接，可通入干燥的氫氣進入爐管
- 另一個浮子流量計與氣液混合罐，可通入濕氫進入爐管中。
- 可在本公司選購質量流量計控制系統，可以更精確地控制氣體流量。
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氣液混合罐 | - 一個304不銹鋼混合罐，容積為600ml( 80OD x 200H, mm)
- 混合罐放置在一個加熱環中
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露點儀 
| - 一個精密的露點儀，帶有KF25接頭
- 測量范圍：0 - 99% RH （精度為1.5%FS），-60? ~ +60? DP（精度+/-0.3?）
- 可調試混合罐的溫度和氫氣流量來調節水分含量
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氫氣探測器
 | - 工作溫度：-18?C - 65?C
- 報警點：氫氣爆炸點的10%
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儀器尺寸 | 1400×600×1200mm |
質保期 | 一年質保期（不包括爐管，密封圈和加熱元件等易耗件） |
質量認證 |  CE Certified
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