工業反滲透設備工藝
工業反滲透設備需要根據實際用水要求配置不同的工藝流程，各行業的用水標準不同，如電阻分為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm等標準，電導率從20uS/cm-0.1uS/cm不等，因此需要針對不同標準配置不同的預處理系統、單級雙級反滲透工藝，后處理系統（EDI電除鹽系統、拋光混床系統、臭氧發生器和二氧化氯等）。

應用場合
1、電子工業用水：半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路；超純材料和超純化學試劑、超純化工材料；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏；高品質顯像管、螢光粉生產；半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗；實驗室和中試車間；光電產品；其他高科技精微產品。

2、精密機械行業用水：汽車零部件的生產加工；飛機、汽車發動機葉片的生產加工；打印機、機激光頭的生產加工；光驅、硬盤的讀寫磁頭及盤片的生產加工；其他對產品有特殊要求的精密機械產品的生產加工。

3、電廠鍋爐行業用水：符合行業鍋爐給水標準（GB1576-79、DL/T561-95），適合中、高壓鍋爐補水水質要求。電阻率在0.5-10MΩ.cm的（超）純水。

4、精細化工行業用水：化工材料的生產和加工過程所用的溶劑及清洗過程；電子半導體、集成電路板上用到的化工材料；石英、硅材料生產、加工、提純；高純墨水、打印機中的噴墨、納米墨水。

5、電鍍涂裝行業用水：電鍍涂裝行業中，為了增加鍍件表面光潔度、亮度、附著力，電鍍液的配制需要用電導率在15uS/cm-5uS/cm以下的純水，另外在鍍件漂洗時也需用電導率在10uS/cm以下純水來清洗，此外超濾和反滲透還可以用來回收漂洗液中的貴重金屬離子，滲透過來的水再返回作鍍件清洗之用。