技術(shù)參數(shù)：

l  測量原理：氧化鋯

l  測量范圍：0.00×10-6 ～25.00%（自動換擋）；

l  允許誤差：≤±2%FS（0.00～10)×10-6 ；

            ≤±1%FS（10.0x10-6 以上）；

l  穩(wěn) 定 性：零點漂移：≤±1%FS/7d ；

         量程漂移：≤±1%FS/7d；

l  重 復(fù) 性：≤ ±1%FS；

l  工作爐溫：750℃；

l  預(yù)熱時間：≤90S；

l  響應(yīng)時間：T90≤30秒；

l  樣氣流量：1.5-2.5ml/min；

l  樣氣壓力：0.05Mpa≤入口壓力≤0.25Mpa；

l  工作環(huán)境： 溫度：－15℃～＋50℃；
       濕度：≤90%；

l  模擬輸出：（4-20）mA標(biāo)準(zhǔn)信號（0-10）V

l  數(shù)字輸出：標(biāo)準(zhǔn)的RS232/RS485通訊口，可與計算機(jī)實現(xiàn)雙向通訊；

l  工作電源：（220±22）VAC，（50±5)Hz；

l  外型尺寸：267mm（寬）x128（高）x305mm（深）；

開孔尺寸：218mm（寬）x128mm（高）；

l  重   量：約3.0kg；

儀器特點：

XC-H200型氧化鋯分析儀是我公司采用進(jìn)口氧化鋯檢測器結(jié)合微機(jī)處理技術(shù)研發(fā)而成的高精度在線惰性氣體中氧含量的檢測分析儀器。

320*240高顯觸摸彩色電容屏，
一體化設(shè)計，體積小、重量輕、結(jié)構(gòu)簡單、布局合理；
采用進(jìn)口氧化鋯檢測器，靈敏度高，響應(yīng)速度快；
可同時顯示氧量、日期、時間,儀器內(nèi)部溫度等參數(shù)；
定時自動存儲功能，可隨時查看存儲數(shù)據(jù)；
上下限控制點可在全量程范圍內(nèi)任意設(shè)置；
報警點可在全量程范圍內(nèi)任意設(shè)置；

標(biāo)準(zhǔn)的RS232或RS485通訊口，可與計算機(jī)實現(xiàn)雙向通訊。
應(yīng)用領(lǐng)域：
空分制氮 、化工流程 、磁性材料等高溫?zé)Y(jié)爐保護(hù)性氣體、電子行業(yè)保護(hù)性氣體以及玻璃、建材行業(yè)的氧含量在線分析。