OTF-1200X-II-ZL是一款爐管可在爐管內部移動的（在真空氣氛保護環(huán)境下移動）管式爐，至多可依次移動4個坩堝。特殊的坩堝推送機構，可將坩堝在爐管內推出后再拉回，讓坩堝能做往返移動。坩堝移動位置&爐體的溫度控制都采用一觸摸屏控制。此款設備可進行物理化學混合沉積（HPCVD），快速熱蒸發(fā)（RTE）等實驗，特別適合制備多層二維晶體材料。
技術參數(shù)
名稱 1200℃多坩堝依次移動型管式爐--OTF-1200X-II-ZL 開啟式管式爐 雙溫區(qū)管式爐：兩個獨立的溫控系統(tǒng)分別獨立控制兩個溫區(qū) 加熱區(qū)長度：溫區(qū)1:200mm, 溫區(qū)2:200mm 爐管材料：高純石英 爐管尺寸：外徑: 60 ×內徑: 54×長: 760 mm 溫度曲線圖(兩個溫區(qū)設置在800℃時所測，僅供參考） 工作溫度：1200℃（<1hr) 連續(xù)工作溫度：1100℃ 控溫精度：+/-1℃ 真空密封 配有不銹鋼密封法蘭，上面安裝有不銹鋼截止閥和機械壓力表。 進氣端法蘭接口為Φ6.35卡套接頭，出氣端法蘭接口為KF25接口。 法蘭密封圈采用水冷卻，使用時需要通入冷卻水，可在本公司選購循環(huán)水冷機。 真空度：10E-2 torr（采用機械泵），10-E5 torr(采用分子泵)。 坩堝移動機構（轉輪式法蘭） 一根鎧裝熱電偶通過左端法蘭通入到爐管內部，并與坩堝相連接(圖1)。 通過步進電機驅動使坩堝移動，并和熱電偶和坩堝一起移動，實時監(jiān)測樣品的溫度。 進氣端法蘭轉輪式法蘭（圖2）。 可同時在轉輪系統(tǒng)中放入4個坩堝，可交替將放入4種材料的石英坩堝自動送入到石英管中（可在真空狀態(tài)或氣氛保護狀態(tài)進行運作）。 坩堝移動控制 通過一步進電機控制坩堝移動的速度和位置。 可控制坩堝較小移動位移為1mm。 坩堝較大移動距離為200mm。 防腐型數(shù)顯真空計 配有一數(shù)顯防腐型真空計。 當氣壓在10mbar以上時，不需因測量氣體種類不同而進行系數(shù)轉換。 對于氣體的壓力檢測具有較高的精確度和重復性。 因為傳感器上鍍有涂層，所以具有較好的抗腐蝕性。 測量范圍：3.8x10-5 -1125 Torr。 混氣系統(tǒng) 此套設備中配有一2路混氣系統(tǒng) 輸出功率：18W 工作溫度：5-45℃ 氣壓：3×106Pa 精度：±1%FS 質量流量計量程： 1:0-100sccm 2:1-199sccm 可根據(jù)客戶要求選購1-5路供氣系統(tǒng) 產品尺寸 2400mm（L）×600mm（W）×1300（H）mm 質保期 一年質保期，相關耗材除外，如爐管加熱元件密封圈易耗件 質量認證 CE認證 所有電器元件（>24V）都通過UL/MET/CSA認證 若客戶出認證費用，本公司保證單臺設備通過德國TUV認證或CSA認證。 國家 名稱：一種小型熱等靜壓爐裝置 編號：ZL-.0 使用注意事項 爐管內氣壓不高于0.02MPa。 由于氣瓶內部氣壓較高，所以向爐管內通入氣體時，氣瓶上必須安裝減壓閥，建議在本公司選購減壓閥，本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa，使用時會更加精確安全。 當爐體溫度高于1000℃時，爐管內不可處于真空狀態(tài)，爐管內的氣壓需和大氣壓相當，保持在常壓狀態(tài)。 進入爐管的氣體流量需小于200SCCM，以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊。 石英管的長時間使用溫度<1100℃。 對于樣品加熱是實驗，不建議關閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關閉氣閥對樣品加熱，則需要時刻關注壓力表的示數(shù)，若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa，必須立刻打開泄氣閥，以防意外發(fā)生（如爐管破裂，法蘭飛出等） 應用注意事項 此款管式爐具有多種用途。 熱蒸發(fā)：把蒸發(fā)料放在坩堝里，通過移動坩堝來精確找到所需要的蒸發(fā)溫度。 HPCVD：和熱蒸發(fā)相似，可通入反應氣體與蒸發(fā)的物料反應后再沉積。 可用于制作多層二維晶體。 免責聲明 本站產品介紹內容（包括產品圖片、產品描述、技術參數(shù)等）僅供參考。可能由于更新不及時和網(wǎng)站不可預知的BUG造成數(shù)據(jù)與實物的偏差。如果您對參數(shù)有異議，或者想了解產品詳細信息，請與本公司銷售人員聯(lián)系。本站提供的信息不構成任何要約或承諾，科儀公司會不定期完善和修改網(wǎng)站任何信息，恕不另行通知，請您見諒。 
