金相檢測顯微鏡解決方案

適用于大尺寸或較厚樣品的快速分析

GX53倒置顯微鏡廣泛應(yīng)用于鋼鐵、汽車、電子及其他制造行業(yè)。用戶只需將樣品倒扣放置在載物臺上即可檢測拋

光金屬和切片樣品。樣品底部無需平整處理，并且尺寸可以較厚、較大、或者較重。GX53能夠提供傳統(tǒng)顯微鏡觀

察方法不易獲得的清晰圖像。在配合奧林巴斯Stream圖像分析軟件使用情況下，該顯微鏡可讓從觀察到圖像分析

及報告的檢測流程得到簡化。

簡化您的檢測流程

檢測快捷，功能多樣

快速觀察、測量和分析金相結(jié)構(gòu)。

人性化

即便新手也能夠輕松觀察、分析檢測結(jié)果并創(chuàng)建報告。

成像技術(shù)

我們成熟可靠的光學(xué)和成像技術(shù)能夠提供清晰的圖像和可靠的檢測結(jié)果。

模塊化

根據(jù)您的應(yīng)用要求選擇所需的組件。

多樣化的分析工具

GX53顯微鏡的各種觀察功能可獲得清晰銳利的圖像，讓用戶能夠?qū)悠愤M(jìn)行可靠的缺陷檢測。奧林巴斯Stream圖像分析軟件的

新照明技術(shù)和圖像采集方案可為用戶提供評估樣品和記錄研究結(jié)果的多選擇。

從不可見到可見：MIX技術(shù)

MIX技術(shù)將暗場與其他觀察方法（如明場或偏光）結(jié)合使用，獲得清晰的觀察圖像。MIX觀察能夠讓用戶觀察傳統(tǒng)顯微鏡不易觀察

的樣品，還可以呈現(xiàn)樣品表面細(xì)微的高度差異。暗場觀察所用的環(huán)形LED照明設(shè)備的定向暗場功能可在特定時間內(nèi)照明一個或多個

象限。這樣可以減少樣品光暈，對于顯示表面紋理比較有用。

生成超出景深圖像EFI

奧林巴斯Stream軟件的景深擴(kuò)展成像(EFI) 功能能夠捕捉到高度超出景深范圍的樣品圖像。EFI可將這些圖像堆疊在一起生成單

幅的樣品超出景深圖像。即便分析表面不平坦的切片樣品時，EFI也能夠創(chuàng)建超出景深圖像。EFI配合手動或電動Z軸載物臺使用

，可生成簡單實現(xiàn)結(jié)構(gòu)可視化的高度圖像。

利用HDR捕捉明亮區(qū)域和暗光區(qū)域圖像

采用圖像處理技術(shù)的動態(tài)范圍(HDR)可在圖像內(nèi)調(diào)整亮度差異，從而減少眩光。其也有助于增強(qiáng)低對比度圖像的對比度。動態(tài)范

圍(HDR)功能可用于觀察電氣設(shè)備的細(xì)微結(jié)構(gòu)并識別金屬晶界。

奧林巴斯Stream軟件 – 針對材料科學(xué)優(yōu)化

材料檢查、測量與分析是工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)及內(nèi)部操作流程的要求。GX53顯微鏡和奧林巴斯Stream軟件可為各種行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)要求的金相分

析方法提供支持。用戶通過分步操作指導(dǎo)能夠輕松快捷完成樣品分析。

顆粒分析 – 計數(shù)和測量解決方案

探測目標(biāo)以及測量尺寸分布是數(shù)碼成像的應(yīng)用之一。奧林巴斯Stream軟件的計數(shù)和測量解決方案運用閾值法實現(xiàn)目標(biāo)（如顆粒和

劃痕）與背景的分離。可使用50種不同的參數(shù)對樣品進(jìn)行測量或評級，包括形狀、大小、位置和像素特性等。

顯微組織中的晶粒尺寸

用戶可測量晶粒尺寸和分析鋁、鐵素體和奧氏體等鋼晶體結(jié)構(gòu)以及其他金屬的顯微組織。支持標(biāo)準(zhǔn)：ISO, GOST, ASTM, DIN, JI

S, GB/T

評估石墨球化率

該軟件可用于評估鑄鐵樣品（球墨/蠕墨）的石墨球化率及含量?？筛鶕?jù)石墨節(jié)點的形態(tài)、分布和大小歸類。支持標(biāo)準(zhǔn)：ISO, NF

, ASTM, KS, JIS, GB/T

高純鋼中非金屬夾雜物含量的評定

對在惡劣視場所采集圖像中的非金屬夾雜物或手動確定的樣品夾雜物進(jìn)行歸類。支持標(biāo)準(zhǔn)：ISO, EN, ASTM, DIN, JIS, GB/T, UNI

您的樣品圖像與參考圖像對比

可輕松比較實時或靜態(tài)圖像與自動縮放的參考圖像。 該解決方案提供符合各種標(biāo)準(zhǔn)的參考圖像。該方案還可支

持包括實時疊加顯示和并排比較的多種模式。可以選配其他參考圖像。支持標(biāo)準(zhǔn)：ISO, EN, ASTM, DIN, SEP

關(guān)注用戶舒適度的設(shè)計

顯微鏡的人體工學(xué)設(shè)計有助于用戶在工作時保持舒適，從而提高檢測工作效率。在與奧林巴斯Stream軟件配合使用時，操作員可

輕松捕捉各種樣品圖像，進(jìn)行多種分析并生成相關(guān)報告。

反射光顯微鏡在很多應(yīng)用和行業(yè)中普遍應(yīng)用。以下為采用不同觀察方法所獲得的效果示例。

明場是一種觀察直接照射樣品反射光的常見觀察方法。暗視場可讓您觀察到樣品的散射或衍射光，因此讓缺陷部位顯而易見。檢

測者可發(fā)現(xiàn)相當(dāng)細(xì)微的劃痕或缺陷。

微分干涉相襯(DIC)是將明場無法觀察的樣品高度用增強(qiáng)對比度的類似3D圖像方式呈現(xiàn)的觀察技術(shù)。對于包括金相組織和礦物在內(nèi)

高度差微小的樣品，檢測效果理想。

根據(jù)您的需要選擇組件

GX53顯微鏡設(shè)計用于讓用戶能夠選擇各類光學(xué)器件滿足其檢測和應(yīng)用需求。該系統(tǒng)可使用自帶可用的觀察方法。用戶還可從一系

列的奧林巴斯Stream圖像分析軟件包中進(jìn)行選擇，以滿足其圖像采集和分析需求。

GX53反射/透射光組合

GX53顯微鏡機(jī)架可配置手動、編碼或電動組件進(jìn)行反射光和透射光觀察。