HTHP原位高溫/高壓三模式反應池
在條件下進行的原位分析附件，三種測試模式
產品簡介
高科技產品和現代工業生產過程需要在溫度和壓力條件下的原位分析。Specac的高溫高壓池在應用非常穩定，效果出色，能解決非常復雜的實驗
Specac高溫/高壓池有能力再創造這些條件，進行光譜分析樣品或模擬實驗室的過程。
樣品池設計用于高光學通量，并允許在多種目的分析配置、透射、反射和雙重之間進行簡單交換(見圖1，2，3)。
| 圖1 投射分析模式 |
| 圖2 反射分析模式 圖3 雙重分析模式 |
主要特征
ü 條件光譜儀--可編程控制溫度*高可達800℃ ,壓力范圍從真空到1000psi
ü 多目的分析儀--透射、鏡面反射和雙重模式
ü 優化設計--允許在分析模式之間進行簡單交換
ü 安全和可靠的結構--堅固耐用的結構、經過安全驗證的電子器件以及安全隔膜
應用范圍
ü 組件失效分析
ü 分解研究
ü 原位反應監測
ü 表面反射率測試
ü 過程氣體分析，催化反應
典型的應用如下：
q催化劑和氧化還原反應，在特定溫度和特定壓力下氣體會在固體表面發生反應，我們可以用紅外光譜記錄整個反應過程。
q樣品在不同的物理狀態下具有多態性。
q固體燃料，即煤和油，在加熱下揮發的蒸汽可以進行定性和定量分析。
q高溫高壓對氣體/蒸汽的影響。
q高溫高壓對固體物質的透射和反射產生的影響。
特性及操作
高溫/高壓池可以使用透射、鏡面反射和雙重模式來分析固體樣品，以及靜態或流動傳輸模式的過程氣體。樣品溫度可高達800℃，樣品池可在真空到1000psi壓力下使用。
樣品池窗片和主體可獨立加熱和控制到高達200℃的溫度，可阻止內部的材料凝結后附著到ZnSe窗片上。水冷上下部分阻止對光譜儀樣品倉內的樣品過度加熱，維持表面在一個安全的溫度。
可通過更換樣品池主體上的光學加壓窗片組件并安裝到基板上來進行透射(*大樣品尺寸13mm)和鏡面反射模式切換。
簡單的重新定位樣品支架/加熱器組件，將加熱的樣品放到光束下的器皿中，即可獲得分解模式。樣品在不同溫度得到的氣體可以被分析出來。樣品池可為氣體分析或清洗提供穩定的氣流。樣品池體積為80ml。
樣品池溫度使用一個可手動或通過計算機編程的專用的控制器來調節。設計結合了一系列重要安全特征。尤其是，樣品池的所有的電源供應都符合加拿大標準協會(CSA)規定(30V或更低)，溫控器在熱電偶輸入上安裝有開路探測可阻止過熱。
樣品池本身安裝了一個安全隔板可防止偶然的過壓，如有需要，其可以安裝到通風櫥中或其他地方。標準的樣品池是耐用的316不銹鋼制成的，如有需要可以拆開進行*的清潔。
訂購信息
GS05850高溫/高壓池 不含反射附件
包括:帶ZnSe窗片的光學器件單元和儀器基板、透射/雙重樣品支架，可
編程高穩定性溫控器。
請光譜儀制造廠家和型號。
GS05855**高溫/高壓樣品池系統 含反射附件
包括:帶ZnSe窗片的光學器件單元和儀器基板、透射/雙重樣品支架，
反射模式楔形加壓窗片組件和反射模式基板，可編程高穩定性溫控器。
請光譜儀制造廠家和型號。
GS05860反射模式套裝
包括:可將GS05850 HTHP樣品池轉化成**的HTHP樣品池(GS05855)
的部件套裝
GS05865密封套件備件
GS05867 ZnSe樣品池窗片備件 (經過測試和認證的)
GS05868分解盤--備用件(2個)
GS05869"安全隔板"備件
可選項
GS05870 HTHP樣品池ESK
GS28000 RS232連接包
GS28001 USB連接包
GS28002 RS485連接包
