產品概述：

GA-5000nao氨逃逸一體化在線監測系統（NH3、NO、O2）基于可調諧半導體激光吸收光譜（TDLAS）和紫外差分吸收光譜（DOAS）技術原理。系統包括預處理、氣體分析模塊和數據處理與顯示三大部分。被測氣體經過高溫采樣探頭除塵、伴熱管高溫傳輸、進入高溫氣體分析模塊（TDLAS+DOAS技術）分析測量。有效的解決了銨鹽低溫結晶堵塞流路，冷凝水析出溶解NH3導致的測量精度偏低，原位式系統高粉塵衰減光路導致無法測量等技術難題。

技術規格：

測量技術：可調諧半導體激光吸收光譜（TDLAS）技術

          紫外差分吸收光譜 （DOAS）技術+氧化鋯

量程范圍：

NH3：0～10～1000ppm

NO：0～50～5000ppm 

O2：0～25%

線性誤差：≤±1%F.S.

重復性：≤1%

零點漂移：≤±1%F.S./半年

量程漂移：≤±1%F.S./半年

響應時間：＜90s（T90）

模擬量輸出：5路4-20mA輸出

模擬量輸入：3路4-20mA輸入

數字通訊：RS485/RS232/GPRS

檢測下限：0.1ppm（10m光程）

吹掃氣源：（0.4～0.8）MPa氮氣、凈化儀表空氣

產品特點：

“單線光譜”吸收技術避免背景氣體干擾、檢測下限低、量程漂移小

220℃以上伴熱避免銨鹽結晶及水份吸收

結構緊湊、便于安裝，自動化程度高、維護量小

多參數集成于同一系統，同時測量成本低

產品應用：

適用于包括燃煤發電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、玻璃廠、垃圾發電站、水泥廠、化工廠等SCR或SNCR脫硝裝置的氨氣逃逸排放監測和過程控制