產品應用:
PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。
產品組成:
PECVD系統配置:
1.1200度開啟式雙溫區真空管式爐
2.滑動系統分為手動、電動滑動,并配置管內測溫系統。
3.預加熱開啟式管式電爐
4.等離子射頻電源
5.多路質量流量控制系統
6.真空系統(可選配中真空或高真空)
產品特點:
生長溫度低;沉積速率快;成膜質量好,適用范圍廣,設備簡單。
產品應用:
PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。
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PECVD系統配置:
1.1200度開啟式雙溫區真空管式爐
2.滑動系統分為手動、電動滑動,并配置管內測溫系統。
3.預加熱開啟式管式電爐
4.等離子射頻電源
5.多路質量流量控制系統
6.真空系統(可選配中真空或高真空)
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