HemiView數字植物冠層分析系統的詳細介紹
用途：HemiView數字植物冠層分析系統通過處理影像數據文件來獲取與冠層結構有關的，例如葉面積指數、光照間隙及間隙分布狀況。通過分析輻射數據的相關信息，能夠測算出冠層截獲的PAR以及冠層下方的輻射水平。其軟件可以計算輻射指標、冠層指標、測量地點的光線覆蓋狀況及直射與漫射光的分布等。
原理：使用180度魚眼鏡頭和高清晰度數碼相機從植物冠層下方或森林地面向上取像, 再將數碼相機的高清晰度影像載入軟件，進行分析處理。
技術規格：
| 圖像文件類型 | BMP、JPEG、TIF、Photo CD |
| 圖像分辨率 | 最小512×512，4368×2912（和數碼相機有關） |
| 鏡頭變形 | 能多種相關天頂角和光線距離 |
| 直射光模型 | 簡單的空氣傳遞，由用戶設置 |
| 散射光模型 | 統一或標準陰天 |
| 數據輸出 | Excel兼容表格格式 |
| 總像素 | 1510萬像素 |
| 支持圖片分辨率 | 4368×2912像素 |
| 魚眼透鏡視角 | 180° |
| 存儲容量 | 2GB，可擴展 |
| 可伸縮單臂支架高度 | 0.69~1.66米 |
| 三腳架高度 | 1.73米 |
| 操作溫度 | +5~+55℃ |
輸出參數：
·天空幾何：質心，立體角和像素計算用于每個天空扇區；
·間隙粒級：比例的可見天空扇區；
·葉面積指數：天空扇區或全部數值；
·太陽輻射：直射和散射，冠層上方和下方，能量或質量單位；
·位置因數：直接，間接（散射），全部；
·時間序列和Sunflecks：可查看日期的日盤（半陰影作用）和太陽輻射，用戶自定義的采樣間隔時間或sunfleck順序
·可選余弦修正：可用任何方位的截取表面；
·全部數值：大部分輸出能將天空扇區表格化，集合到單個全天空或年數值中。
特點：
·交互式圖示定位工具：精準記錄的圖像半球縱坐標系統。補償磁場偏差；
·支持圖像分類：強度區分界限和干擾像素。圖像按照實時更新分類；
·圖像可多重和拆分查看：分類和色彩/灰色等比率查看，或將整幅圖像拆分開瀏覽；
·圖像底片：圖像可轉換為底片模式進行查看和分析；
·可給不同的天空區域定義號碼：天頂角和方位角定義范圍；
·單個樹的葉面積：直接可通過HemiView輸出單個樹的LAI；
·分析局部圖像：可以將圖像中不需要參與分析的部分排除；
·地點，鏡頭和太陽模型的參數：用戶可設定地點，鏡頭和太陽模式應用到任何一個圖像中，方便從列表中選擇；
·定義鏡頭的特點：鏡頭方程是當用戶使用了當前鏡頭和老款類型提供的ΔT；
·輸出：分析結果可輸出為Excel兼容表格格式或文本格式；
·自定義輸出參數：用戶可根據不同的圖像定義不同的輸出參數。
時間序列計算光照示例圖
產地：英國
