GD90-RF射頻輝光放電質(zhì)譜儀
GDMS技術(shù)使原子化(碎片化)過程與離子化過程分開進行,故而可容易的對ppb至ppt級別的痕量雜質(zhì)進行測量。此法還使得GDMS技術(shù)擁有小的基體效應(yīng)且無須特定參照材料。它可對金屬與合金進行全掃描分析,可對半導體進行整體的測量分析,可對多層結(jié)構(gòu)與鍍層進行深度剖析。是包括金屬、合金、半導體以及緣體等高純材料的生產(chǎn)與質(zhì)量控制的理想工具。
GD90-RF射頻輝光放電質(zhì)譜儀主要由三部分構(gòu)成:輝光放電離子源、質(zhì)量分析器、檢測器。另外還包括一些輔助系統(tǒng),如真空系統(tǒng)、離子光學系統(tǒng)、電學系統(tǒng)和數(shù)據(jù)采集控制系統(tǒng)等。而GD90-RF射頻輝光放電質(zhì)譜儀具有靈活的雙離子源系統(tǒng):直流源(DC)和射頻源(RF)。GD90-RF離子源包含直流源和射頻源,切換簡單方便,可以直接分析不同尺寸的塊狀、針狀及粉末樣品。高電離閾值材料離子源室,有效避免電離時帶來的污染。
GD90-RF射頻輝光放電質(zhì)譜儀的主要特性:
1、對塊狀、針狀或粉末狀的導體或非導體樣品進行直接分析;
2、高分辨率,特別是對于有干擾離子存在的測定而言十分重要;
3、廣泛的元素涵蓋范圍,軟件中包括70個元素相關(guān)的干擾離子數(shù)據(jù);
4、由于原子化和離子化過程發(fā)生在不同區(qū)域,帶來可忽略的基體效應(yīng);
5、低至亞ppb級的檢測限;
6、具有深度剖析能力;
7、少的樣品制備過程。
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