應用

Neocera公司的使命是為研究新型*薄膜材料和器件的科學家和工程師提供服務。我們通過以下手段來實現此目標：

l 發展在材料科學和器件工程方面的基礎競爭力

l 在薄膜制造方面，提供的脈沖電子束鍍膜（PED）和脈沖激光鍍膜（PLD）設備

l 提供的技術支持

l 參與共同的研究與開發

Neocera公司是一家PED 和PLD設備的增值供應商。在PED 和PLD科學和技術的前沿方面，我們提供的解決方案；我們的設備和實際經驗將幫助解決你們的問題。

另外，Neocera公司參與政府部門和工業客戶的前沿的研究與開發；作為材料科學家，我們了解你們的需要。

技術指標

一、 PED-120系統的技術指標

l PEBS-20脈沖電子源和電源

l 真空腔：直徑12"

Ø 額定基壓：<1x10^-6 Torr

l 基片加熱器，直徑2"，帶控溫器

Ø 氧氣可達大氣壓力

Ø 溫度：950 °C

Ø 溫度均勻性：±5 °C

Ø 溫度穩定性：±1 °C

Ø 基片加熱器檔板

l 靶盒，手動控制

Ø 可放置6個1"的靶或3個2"的靶

Ø 靶與法蘭的距離：4"

l 氣路

Ø 質量流量計控制進入真空腔的流量，量程100sccm

Ø 控制采用單通道設置/數值顯示

l 真空泵系統

Ø 260 l/s 帶冷阱的渦輪分子泵，高真空泵

Ø 4 m³/hr無油機械泵

Ø 8"閘板閥，手動控制

Ø 排氣/出氣閥，用于氧氣的安全操作

l 真空計，顯示讀數

Ø 冷陰極型

Ø 對流型

l 系統框架

Ø 占地面積：22”W x 34”D

Ø 空間： 30”W x 34”D

Ø 總高度： 54"-58"

Ø 標準19"電子元件安裝架

Ø 腳輪和水平調節器

l 電源

Ø 110-240 VAC/50 Hz, 20 A，單相

二、PEBS-20脈沖電子源系統的技術指標

組成：

l PEBS-20脈沖電子源

l 電源

l 電子控制系統

l 預裝軟件的控制計算機

技術指標：

電壓：115-230 VAC, 50/60 Hz, 單相

氧氣壓力：5-20 mTorr

電子能量：8-20 kV

單次脈沖能量：0.1 – 0.8 J

脈沖能量偏差（Max）：±10%

能量轉換效率：25-30%

脈沖持續時間：~100 ns

脈沖重復速率（Max）：15 Hz

電子束斑面積（Min）：6 x 10^-2 cm²

電子束斑面積偏差（Max）：±20%

脈沖能量密度（Max）：1.3 x 10⁸ W/ cm²

Z軸移動距離：50 mm

XY軸移動距離：±20 mm

工作壽命：10⁷ 次脈沖

PEBS源的工作溫度（Max）：85 °C

特點

脈沖電子束沉積（PED）的特點

與CW技術相比，例如傳統的電子束蒸發，脈沖系統的主要特點是可以在靶材表面上

產生達10⁸W/cm²的高能量密度。因此，靶材的熱動力學特性比如熔點和比熱等

在蒸發過程中就變得不重要了。這一點對復雜的、多組分材料特別具有優勢。與脈

沖激光沉積（PLD）相比，脈沖電子束沉積（PED）技術提供了的平臺，在

一系列具有重要技術價值的基片上沉積復雜材料的薄膜，其*的優點在于擴展了

材料的范圍和應用。這種方法在大批量生產中可以大規模應用且成本低廉。