詳情介紹：
混床去離子水設備：
混床去離子水設備為深度脫鹽設備，用于制造高純水，產水電阻率為10-18兆歐,二氧化硅含量（SIO2）≤0.02mg/L, 混床分為單、雙床、拋光床、雙床可一用一備(不影響生產用水的連續性）；可串聯使用，以提高產水水質,有效利用樹脂的交換容量；當生產用水量大時，可并聯使用，運行相當靈活、方便,出水電導率由高精度電阻率儀監控。
混床是混合離子交換柱的簡稱，是針對離子交換技術所設計的設備。所謂混床去離子水設備，就是把一定比例的陽、陰離子交換樹脂混合裝填于同一交換裝置中，對流體中的離子進行交換、脫除。由于陽樹脂的比重比陰樹脂大，所以在混床內陰樹脂在上陽樹脂在下。一般陽、陰樹脂裝填的比例為1：2，也有裝填比例為1：1.5的，可按不同樹脂酌情考慮選擇。
混床是混合離子交換柱的簡稱，是針對離子交換技術所設計的設備。所謂混床去離子水設備，就是把一定比例的陽、陰離子交換樹脂混合裝填于同一交換裝置中，對流體中的離子進行交換、脫除。由于陽樹脂的比重比陰樹脂大，所以在混床內陰樹脂在上陽樹脂在下。一般陽、陰樹脂裝填的比例為1：2，也有裝填比例為1：1.5的，可按不同樹脂酌情考慮選擇。
混床去離子水設備也分為體內同步再生式混床和體外再生式混床。同步再生式混床在運行及整個再生過程均在混床內進行，再生時樹脂不移出設備以外，且陽、陰樹脂同時再生，因此所需附屬設備少，操作簡便，具有以下優點：
(1) 出水水質優良，出水pH值接近中性。
(2) 出水水質穩定，短時間運行條件變化（如進水水質或組分、運行流速等）對混床出水水質影響不大。
(3) 間斷運行對出水水質的影響小，恢復到停運前水質所需的時間比較短。
混床去離子水設備運行工況
一.當混合床運行失效之后，必須設法將陰、陽樹脂分離，以便再生這是關鍵的操作步驟在實際生產中，大都采用水利篩分法，利用陰、陽樹脂相對密度的不同，在反洗的水力，將樹脂懸浮起來，在到達一定的膨脹率之后，讓樹脂沉降下來，陽樹脂的相對密度大沉于下面，陰樹脂的相對密度小浮于上面，使兩種樹脂明顯分開反洗分層操作時，開始的流速要小，逐漸增大流速至10m/H左右，樹脂膨脹率達到50%，時間約為15min，然后靜置，放水操作，約10~15min，將水放至樹脂層上面約100mm為止. 混合床樹脂分層要2次，甚至3次方才分好，有的時候通以壓縮空氣反洗，或者加入10%濃度的食鹽水以及堿液，以增加分層效果。
二.先分層后,加堿(3-5%)再生陰樹脂,從底部排出,沖洗后加酸(3-5%),從底進,控制流速從中排出。
三.沖洗完畢后,再大流量給水混合即可。
混床去離子水設備性能
混床去離子水設備性能
離子交換是一種特殊的固體吸附過程，它是由離子交換劑的電解質溶液中進行的。一般的離子交換劑是一種不溶于水的固體顆粒狀物質，即離子交換樹脂。它能夠從電解質溶液中吸取某種陽離子或者陰離子，而把自身所含的另外一種帶相同電荷符號的離子等量地換出來，并釋放到溶液中去，這就是所謂的離子交換。按照所交換離子的種類，離子交換劑可分為陽離子交換劑和陰離子交換劑兩大類。
離子交換混床為深度脫鹽設備，用于制造高純水，產水電阻率為10-18兆歐,二氧化硅含量(SIO2)≤0.02mg/L, 混床分為單、雙床、拋光床、雙床可一用一備，（不影響生產用水的連續性）；可串聯使用，以提高產水水質， 有效利用樹脂的交換容量；當生產用水量大時，可并聯使用，運行相當靈活、方便。出水電導率由高精度電阻率儀監控。
離子交換混床系統以過濾、吸附、離子交換、**等水質凈化單元設備為主體，加上各種相應的輔助設備和材料，組成滿足各種用水要求的成套設備.處理水質要求從簡單的除鹽水到十分嚴格的超純水都能適應，單套處理能力從0.5m3/h到250m3/h，可滿足幾乎所有行業的用水要求。
混床去離子水設備應用范圍:
混床配合特殊行業需更高純度的用水，如電子、半導體、液晶、光學清洗、醫療、制藥、電泳涂裝等；一般復床式純水機出水質量難以達到指標，特別設計混保型高純水機系列，由于通過混合離子交換后進入水中的氯離子與氫氧離子立即生成電離度很低的水分子，混床樹脂在交換過程中，由于均勻混合狀態，交錯排列，互相接角，可以看作是許多的陰陽離子交換樹脂而組成的多級雙床純水機，可相當于1000-2000級雙床。因為是均勻混合，陰、陽離子的交換反應幾乎是同時進行的，所產生H+、OH-隨即合成H2O,交換反應進行得很*，因而混合床的出水水質優于雙床式純水機多臺串聯所能達到的水質，能制取純度相當高的純水。
