可變形反射鏡
Mini-DM
自適應光學：
*的波前控制以MEMS變形鏡產生更高的對比度，高分辨率成像。波陣面成形是通過矯正高階像差引起的光學限制，大氣湍流，組織不均勻性。BMC的MEMS變形鏡提供的調整和控制，大大提高成像精度。
DM Selection Chart | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
DM 規格：
·32個致動器(6×6數組4角沒有)
·涂料:鋁、金或銀的保護
·保護窗口350 - 700 nm,400 - 1100 nm,650 - 1050或1050 - 1700 nm AR
·零滯后現象
·Sub-nm平均步長
·填充系數> 99%(DM)，98%(SLM)
·表面光潔度:< 30 nm RMS
驅動規格：
·*驅動和控制通過USB 2.0接口
·14位步分辨率
·幀率:8 kHz， 34 kHz破裂
·尺寸:4“×5.25“×1.2”
軟件規格：
·Windows XP / 7,Linux操作系統兼容
·包括基本操作軟件
·C / C++,Matlab和虛擬儀器驅動程序包括在內
·Linux驅動程序可用
·虛擬儀器測試軟件
Multi-DM
DM Selection Chart | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
DM 規格：
·140 致動器(12×12數組4角沒有)
·涂料:鋁、金或白銀的保護
·防護窗350 - 700 nm,650 - 1050或1050 - 1700 nm AR涂層
·零滯后現象
·Sub-nm平均步長
·填充系數> 99%(DM),98%(SLM)
·表面光潔度:< 30 nm RMS
驅動規格：
·USB 2.0接口
·120 - 240 VAC輸入
·14位步分辨率
·幀率:8 kHz ，34 kHz破裂
·尺寸:9“×7“×2.5”
492-DM
MEMS變形反射鏡
MEMS變形鏡目前在許多AO應用鑒于其多功能性，技術的成熟，和他們的高分辨率波前校正功能。使用*的，廉價的制造技術，MEMS DMs性能優勢是微加工:
1. 巨大的致動器陣列創造高分辨率波前校正
2. *的微觀結構允許最小影響相鄰驅動器對高空間頻率的表面
3. 優化設計使快速波陣面形成為高速應用
DM 規格：
·連續(DM)或分段(SLM)表面
·492致動器（24通過一個圓形的孔徑）
·涂料:鋁、黃金或銀的保護
·防護窗400 - 1100 nm,1550nm或550 - 2400 nm AR涂層
·零磁滯
·填充系數> 99%(DM),98%(SLM)
·Sub-nm平均步長
·表面光潔度:< 30 nm RMS
·Stroke: 1.5 μm, 3.5 μm
·孔徑6.9毫米,9.2毫米
·Pitch:300μm，400μm
·約.機械響應時間 (10% - -90%):< 20μs
·約.Interactuator耦合(±5%):15%
驅動規格：
·DIO 接口:SFP光纖連接通過PCIe接口Card
·14位步分辨率
·幀率:34千赫/ 60 kHz(低延遲)
·響應時間:30μs / 17μs(低延遲)
·能耗:< 40 W
·尺寸:5.25×14“×19(3 U底架)
Kilo-S-DM
Kilo-S-DM 規格：
·連續(DM)或分段(SLM)表面
·32致動器在平方有效孔徑(1020合計)或34致動器在一個圓形有效孔徑(952合計)
·Stroke:600nm
·涂料:鋁、金或銀的保護
·保護窗口，“AR”涂層
·零磁滯
·填充系數> 99%(DM),98%(SLM)
·Sub-nm平均步長
·表面光潔度:< 20 nm RMS
S-Driver 規格：
·DIO接口:SFP光纖連接(2.5 Gbps)通過PCIe card
·延遲:22.7µs
·幀率:60 kHz
·分辨率:12位
·平均電壓步長:14 mV
·尺寸:3.5×14“×19(3U底座為19“機架)
Kilo-SLM性能測試
Maximum update rates |
|
線陣列 DM
DM規格：
·96x1或48 x2致動器
·長度:28毫米/ 12毫米
·寬度:1.8毫米/ 800μm
·零磁滯
·Sub-nm平均步長
·填充系數> 99%(DM),98%(SLM)
驅動規格：
·USB 2.0接口
·14位步分辨率
·幀率(延遲):8 kHz(125µs)，34KHz(32µs)破裂
·尺寸:9“×7“×2.5”
