CX-9800(L)火花光譜分析儀
CX-9800(L)火花光譜分析儀是我公司引進(jìn)歐洲的第二代CCD光譜儀技術(shù)生產(chǎn), 廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機械、汽車制造、航空航天、兵器、金屬加工等領(lǐng)域的生產(chǎn)工藝控制，爐前化驗，中心實驗室成品檢驗。CX-9800(L)火花光譜分析儀體積小、穩(wěn)定性好、檢測限低、分析速度快、運行成本低、操作維護(hù)方便，是控制產(chǎn)品質(zhì)量的理想選擇。
CX-9800(L)火花光譜分析儀的優(yōu)勢
1、第二代CCD/CMOS全譜光譜儀制造技術(shù)（數(shù)字化技術(shù)替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術(shù)）、通道不受限制 ；
2、同光譜儀技術(shù)同步，國內(nèi)能生產(chǎn)真空CCD全譜技術(shù)光譜儀的制造商；
3、基體范圍內(nèi)通道改變、增加不需費用
4、升級多基體方便，無須變動增加硬件 ；
5、優(yōu)良的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性，同一樣品不同的時間段分析，可獲得良好的數(shù)據(jù)一致性 ；
6、體積小、重量輕， 移動安裝方便 ；
7、高集成度、高可靠性、高穩(wěn)定性 ；
8、節(jié)電、節(jié)材、能耗只是普通光譜儀50%。
CX-9800(L)火花光譜分析儀主要特點
1、CX-9800(L)火花光譜分析儀可測定包括痕量碳（C），磷（P）,硫（S）元素,適用于多種金屬基體，如：鐵基，鋁基，銅基，鎳基，鉻基，鈦 基，鎂基，鋅基，錫基和鉛基。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍，可根據(jù)客戶需要選擇通道元素；
2、CX-9800(L)火花光譜分析儀分析速度快捷，20秒內(nèi)測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料，通過設(shè)置預(yù)燃時間及標(biāo)線，使儀器用短的時間達(dá)到優(yōu)的分析效果；
3、CX-9800(L)火花光譜分析儀光學(xué)系統(tǒng)采用真空恒溫光室， 激發(fā)時產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光室，實現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗，提高檢出限，測定結(jié)果準(zhǔn)確，重現(xiàn)性及長期穩(wěn)定性；
4、CX-9800(L)火花光譜分析儀特殊的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半；
5、CX-9800(L)火花光譜分析儀自動光路校準(zhǔn)，光學(xué)系統(tǒng)自動進(jìn)行譜線掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動識別特定譜線，與原存儲線進(jìn)行對比，確定漂移位置，找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測定；
6、CX-9800(L)火花光譜分析儀開放式的電極架設(shè)計，可以調(diào)整的樣品夾，便于各種形狀和尺寸的樣品分析；
7、CX-9800(L)火花光譜分析儀工作曲線采用標(biāo)樣，預(yù)做工作曲線，可根據(jù)需要延伸及擴展范圍，每條曲線由多達(dá)幾十塊標(biāo)樣激發(fā)生成，自動扣除干擾；
8、CX-9800(L)火花光譜分析儀HEPS數(shù)字化固態(tài)光源，適應(yīng)各種不同材料；
9、CX-9800(L)火花光譜分析儀固態(tài)吸附阱，防止油氣對光室的污染，提高長期運行穩(wěn)定性；
10、CX-9800(L)火花光譜分析儀銅火花臺底座，提高散熱性及堅固性能；
11、CX-9800(L)火花光譜分析儀合理的氬氣氣路設(shè)計，使樣品激發(fā)時氬氣沖洗時間縮短，為用戶節(jié)省氬氣，氬氣消耗不到普通光譜儀的一半；
12、CX-9800(L)火花光譜分析儀采用鎢材料電極，電極使用壽命更長，并設(shè)計了電極自吹掃功能，清潔電極更加容易；
13、CX-9800(L)火花光譜分析儀高性能DSP及ARM處理器，具有超高速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動實時監(jiān)測光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運行狀況；
14、CX-9800(L)火花光譜分析儀儀器與計算機之間采用以太網(wǎng)連接，抗干擾性能好，外部計算機升級與儀器配置無關(guān)，使儀器具有更好的適用性；
15、CX-9800(L)火花光譜分析儀核心保證了儀器的品質(zhì)。
| 光學(xué)系統(tǒng) | |
| 光學(xué)結(jié)構(gòu) | 帕邢-龍格結(jié)構(gòu)的全譜真空型光學(xué)系統(tǒng) |
| 光室溫度 | 自動控制恒溫：35℃±0.5℃ |
| 波長范圍 | 160-800nm |
| 光柵焦距 | 350 mm |
| 光柵刻線 | 3600 l/mm |
| 一級光譜線色散率 | 1.2 nm/mm |
| 探測器 | 多塊高性能線陣CCD |
| 平均分辨率 | 10pm/pixel |
| 激發(fā)臺 | |
| 氣 體 | 沖氬式 |
| 氬氣流量 | 激發(fā)時3-5L/min， 待機時:無須待機流量 |
| 電 極 | 鎢材噴射電極技術(shù) |
| 吹 掃 | 點擊自吹掃功能 |
| 補 償 | 熱變形自補償設(shè)計 |
| 分析間隙 | 樣品臺分析間隙：4mm |
| 激發(fā)光源 | |
| 類 型 | HEPS數(shù)字化固態(tài)光源 |
| 頻 率 | 100-1000Hz |
| 放電電流 | 1-80A |
| 特殊技術(shù) | 放電參數(shù)優(yōu)化設(shè)計 |
| 預(yù) 燃 | 高能預(yù)燃技術(shù) |
| 數(shù)據(jù)采集系統(tǒng) | |
| 處理器 | ARM處理器，高速數(shù)據(jù)同步采集處理 |
| 接 口 | 基于DM9000A的以太數(shù)據(jù)傳輸 |
| 電源與環(huán)境要求 | |
| 輸 入 | 220VAC 50Hz |
| 功 率 | 分析時700W，待機狀態(tài)40W |
| 工作溫度 | 10-30℃（該溫度范圍內(nèi)溫度變化不大于5℃/h） |
| 工作濕度 | 20-80% |
| 尺寸與重量 | |
| 主機尺寸 | 800*750*500 mm |
| 重 量 | 120Kg |
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