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廣電計量檢測集團(tuán)股份有限公司

納米壓印光刻膠

參考價 19
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱邁可諾技術(shù)有限公司
  • 品       牌其他品牌
  • 型       號全系列
  • 所  在  地上海市
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 更新時間2021/5/21 11:49:52
  • 訪問次數(shù)1048
產(chǎn)品標(biāo)簽:

納米壓印膠

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 邁可諾公司全稱“邁可諾技術(shù)有限公司”,英文簡稱“MYCRO”。這是一家富有創(chuàng)新精神的化高科技公司,專業(yè)提供光電半導(dǎo)體化工實驗室所需設(shè)備耗材的全套解決方案提供商,公司網(wǎng)址為 。  作為工業(yè)實驗室市場領(lǐng)域的,邁可諾從事開發(fā)、設(shè)計、生產(chǎn)并營銷質(zhì)量可靠的、安全易用的技術(shù)產(chǎn)品及優(yōu)質(zhì)專業(yè)的服務(wù),幫助客戶和合作伙伴取得成功。  邁可諾成功的基礎(chǔ)是幫助客戶做出更好的選擇和決定,尊重他們的決定,并協(xié)助他們實現(xiàn)高效率的科研成果,追求豐富有意義的生活。

主營產(chǎn)品:勻膠機(jī),旋涂儀,甩膠臺,勻膠臺,涂層機(jī),涂膠機(jī),涂膜機(jī),旋轉(zhuǎn)涂敷儀, HPC,PPC, PAC,SCE系列等離子清洗機(jī), Cargille光學(xué)試劑,光刻機(jī)/曝光機(jī),壓力機(jī), 壓片機(jī), 熱壓機(jī),WABASH熱壓機(jī), CARVER熱壓機(jī),LAURELL勻膠機(jī)、HOT PLATE熱板 烤膠機(jī)
Laurell勻膠機(jī)
 Harrick等離子清洗機(jī)
 Carver手動壓片機(jī)
 Uvitron紫外固化箱
 Novascan紫外臭氧清洗機(jī)
 Wenesco/EMS/Unitemp加熱板
 Kinematic程序剪切儀
Laurell EDC系統(tǒng),濕站系統(tǒng)
 NXQ光刻機(jī)
 Anatech等離子系統(tǒng)
 Wabash/Carver自動壓片機(jī)

光學(xué)試劑,勻膠機(jī),等離子清洗機(jī),熱板,光刻機(jī),壓片機(jī)
適用 i、g和h線等
德國Micro Resist公司創(chuàng)立于1993年.公司生產(chǎn)的高性能各種用于微納制作的光刻膠,除了生產(chǎn)用于i、g和h線的光刻膠以外,還有電子束刻蝕膠和納米壓印膠以及專門用于光學(xué)波導(dǎo)制作的光膠可供選擇。
納米壓印光刻膠 產(chǎn)品信息

德國Micro Resist公司創(chuàng)立于1993年.公司生產(chǎn)的高性能各種用于微納制作的光刻膠,除了生產(chǎn)用于i、g和h線的光刻膠以外,還有電子束刻蝕膠和納米壓印膠以及專門用于光學(xué)波導(dǎo)制作的光膠可供選擇。

IPNR-T1000 Thermoplastic nanoimprint resist 熱塑型納米壓印膠 
分辨率低于10nm 
低壓力壓印(< 20 bar) 
低溫壓力(< 100 ℃) 

IPNR-T2000 Thermal curable nanoimprint resist 熱固化型納米壓印膠 
分辨率低于10nm 
低壓力壓印(< 1 bar)以及低固化溫度(< 100 ℃) 
 熱固化時間短(< 60 s) 
高氧等離子體刻蝕電阻 
均一的膜厚度 

IPNR-PC1000 Photo-curable nanoimprint resist (Free radical initiation) 光固化型納米壓印(自由基引發(fā)) 
丙烯酸酯官能化聚硅氧烷抗蝕劑 
真空或者氮?dú)鈿夥障虏僮?nbsp;
低于10nm的分辨率 
低壓力壓印以及超快固化時間(< 10 s) 
低紫外照射量 
高氧等離子體刻蝕電阻 
均一的膜厚度 

IPNR-PC2000 Photo-curable nanoimprint resist (cation intiation) 光固化納米壓印蝕劑(陽離子引發(fā)) 
乙烯基醚官能化聚硅氧烷抗蝕劑 
空氣氣氛下操作 
分辨率低于10nm 
低壓力壓印(< 1 bar)以及超快固化時間(< 1 bar) 
低紫外照射量 
高氧等離子體刻蝕電阻 
均一的膜厚度 

IPNR-UL1000 Under-layer polymer 舉離型傳遞層材料 
熱塑聚合物發(fā)送過程 
強(qiáng)粘附抗蝕劑層以及材料 

IPNR-UL2000 Under-layer polymer 刻蝕型傳遞層材料 
熱固性聚合物刻蝕面罩過程 
強(qiáng)粘附抗蝕劑層以及材料 

IPNR-UPM Quick mold fabrication material 快速模板制作材料 
快速而簡單的塑造材料 
高分辨率以及低成本 
化良好的學(xué)性以耐溫性 
塑造優(yōu)良的附著力基板 
可靠的脫模性 

IPNR-AP Chlorosilane based adhesion promoter 氯硅烷增粘劑 
促進(jìn)和基材之間的附著力 
氣相或者液相處理

產(chǎn)品相關(guān)關(guān)鍵字: 光刻膠 納米光刻膠 納米壓印光刻膠
15168338725
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