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美國Futurrex光刻膠

參考價	￥ 18
訂貨量	≥1臺

具體成交價以合同協議為準

公司名稱邁可諾技術有限公司
品牌
型號全系列
所在地上海市
廠商性質代理商
更新時間2021/5/21 11:40:33
訪問次數820

產品標簽:

光刻膠

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公司介紹主營產品

　邁可諾公司全稱“邁可諾技術有限公司”，英文簡稱“MYCRO”。這是一家富有創新精神的化高科技公司，專業提供光電半導體化工實驗室所需設備耗材的全套解決方案提供商，公司網址為 ?！　∽鳛楣I實驗室市場領域的，邁可諾從事開發、設計、生產并營銷質量可靠的、安全易用的技術產品及優質專業的服務，幫助客戶和合作伙伴取得成功?！　∵~可諾成功的基礎是幫助客戶做出更好的選擇和決定，尊重他們的決定，并協助他們實現高效率的科研成果，追求豐富有意義的生活。

主營產品：勻膠機，旋涂儀，甩膠臺，勻膠臺，涂層機，涂膠機，涂膜機,旋轉涂敷儀, HPC,PPC, PAC，SCE系列等離子清洗機， Cargille光學試劑，光刻機/曝光機，壓力機, 壓片機, 熱壓機，WABASH熱壓機, CARVER熱壓機,LAURELL勻膠機、HOT PLATE熱板烤膠機
Laurell勻膠機
Harrick等離子清洗機
Carver手動壓片機
Uvitron紫外固化箱
Novascan紫外臭氧清洗機
Wenesco/EMS/Unitemp加熱板
Kinematic程序剪切儀
Laurell EDC系統，濕站系統
NXQ光刻機
Anatech等離子系統
Wabash/Carver自動壓片機

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光學試劑，勻膠機，等離子清洗機，熱板，光刻機，壓片機

產品簡介在線詢價

膠黏附性	優

Futurrex 成立于1985年，是美國光刻膠及輔助化學品制造商。產品以技術著稱，從2000年至今年均增長率為33%。

美國Futurrex光刻膠產品信息

應用領域	型號	特性
半導體	NR9-PY	用于lift-off工藝，高黏附性、高效，耐高溫
	NR71-PY	用于lift-off工藝，高溫，可作為間隔材料
	NR9-P	高黏附性，適用于電鍍和濕法刻蝕
	NR71-P	做掩膜，適用于干法刻蝕，可作為間隔材料
	NR21-P	100um的膜厚，具有良好的分辨率
	NR5	可作厚膜掩膜，適用于離子刻蝕
	PR1	耐高溫，用于一般圖案的正性光刻膠，離子刻蝕，濕法刻蝕
	IC1/DC5	濾波等電解質材料
	PC3	平坦化，臨時黏附及機械保護
	BDC1/PDC1/ZPDC1	摻雜工藝
太陽能	BDC1	摻硼材料
	PDC1	摻磷材料
	NR71/NR9-PY	用于lift-off工藝，高黏附性、高效，耐高溫/做間隔材料
	NR9-P	高黏附性，適用于電鍍和濕法刻蝕
LED/OLED/HBLED	NR9-PY	用于lift-off工藝，高黏附性、高效，耐高溫
	NR71-P	做掩膜，適用于干法刻蝕，可作間隔材料
	IC1	濾波等電解質材料
MEMS	NR9-P	高黏附性，適用于電鍍和濕法刻蝕
	NR5/NR71	可作厚膜掩膜，適用于離子刻蝕/做掩膜，可作間隔材料
	NR2	可實現120um膜厚，6：1深寬比的圖案，適用于電鍍、濕法刻蝕
	NR71/NR9-PY	用于lift-off工藝，高黏附性、高效，耐高溫/做間隔材料
	PC3	平坦化，臨時黏附及機械保護
	IC1	濾波等電解質材料
微流體與生物芯片	NR71-P	做掩膜，適用于干法刻蝕，可作間隔材料
	NR2	可實現120um膜厚，6：1深寬比的圖案，適用于電鍍、濕法刻蝕
	NR5	可作厚膜掩膜，適用于離子刻蝕
光電子	NR71/NR9-PY	用于lift-off工藝，高黏附性、高效，耐高溫/做間隔材料
	NR71-P	做掩膜，適用于干法刻蝕，可作間隔材料
	PR1	刻蝕制程中的正性光刻膠，適用于噴涂和輥涂
	NR9-P	高黏附性，適用于電鍍和濕法刻蝕
	NR2-P	可實現100um膜厚的凹凸圖案，分辨率好，易于去膠
封裝	NR2-P	可實現100um膜厚的凹凸圖案，分辨率好，易于去膠
	NR5	可作厚膜掩膜，適用于離子刻蝕
	PR1	刻蝕制程中的正性光刻膠，適用于噴涂和輥涂
平坦化	PC3	平坦化，臨時黏附及機械保護
圖案印刷	PR1	刻蝕制程中的正性光刻膠，適用于噴涂和輥涂
圖案印刷	NR9	增強了黏附性，適用于噴涂和輥涂
顯影液	RD6	顯影時間短，適用于正、負性光刻膠，
去膠液	RR41/RR5	可以安全、高效的去除光刻膠及臨時涂層，適用于多種襯底材料
邊膠清洗液	EBR2	高效、快速的邊膠去除