一、產品簡介：

MYCRO*荷蘭MMA16光刻機（Mask Aligner)，是的光刻系統，為半導體制造和科研領域提供品質優良穩定的全波段紫外光刻機系統，廣泛的應用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領域。客戶如美國航空航天公司、飛利浦、摩托羅拉、惠普、牛津大學、劍橋大學、斯坦福大學、倫敦大學等等。

光刻機分為半自動和全自動兩大系列。其中MMA16掩碼對準器是一種高性能掩碼對準器，已經過驗證的組件設計。該系統是一個理想的經濟選擇研發，或有限的規模，試生產。我們采用了一種創新的系統，使基板快速而輕柔地拉平，在接觸曝光過程中實現平行光掩模對準和在晶圓上均勻接觸。該系統具有一微米的分辨率和校準精度。

MMA16的特點是一個可靠的紫外線光源，提供準直紫外線在近或深紫外光使用燈。雙傳感器、光反饋回路與恒定強度控制器相連，可將曝光強度控制在所需強度的±2%以內。可以快速而容易地改變UV波長。這是一個靈活，經濟的解決方案，任何入門級口對準和紫外線曝光應用。

MMA16面罩對準器軟件的特點是易于理解和Z越的人機工程學，減少了操作人員的培訓時間，使其更容易與系統一起工作

二、技術參數：

1、光掩模的尺寸：5英寸大；

2、晶片大小：大4英寸(無定形)；

3、掩模架滑動：手動卡盤；

4、模板移動：X=±3mm, Y=±3mm；

5、曝光方法：支持接近式曝光，各種接觸式（軟接觸/硬接觸/間隙印刷/真空接觸/低真空接觸）曝光；

6、照明：250W超高壓燈

7、照明不均勻性：±5%

8、有效接觸面積：直徑100毫米

9、分辨率：3mµL/S

10、對齊方法：通過攝像頭查看

11、對齊物鏡：10 x(上/下)

12、總放大倍率：100 x

13、物鏡分離：15˜90毫米

14、對準范圍：X,Y=±4毫米

15、對準間隙：99年09年µm

16、對準精度：小于±5毫米

17、主機電源：220/50Hz, 16A (600W)

18、氮氣：0.4˜0.5 Mpa

19、真空壓力：小于21.3kPa(大氣壓-80kPa)

20、主機尺寸：高度712mm×寬度700mm×深度 440mm

21、凈重：約250Kg

三、產品特點：

高分辨率打印

高精度X,Y,對準臺和顯微鏡操縱器

高強度光學配置

不同紫外線照射波長

低限度的操作員培訓

人體工學操作

易于理解用戶界面

易于進行所有組件的組裝

掩模對準器

無需預熱時間

價格低