超純水設備是一款制備半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路等行業清洗半成品、成品用純水、高純水、超純水的裝置。
電路板用水特征
1. 大規模集成電路元器件的生產用水，一般電阻率均大于18MO-CM。按國家有關用水標準(GB/T11446.1-1997)執行。
2. 電子元件廠，在焊接和組裝過程中的沖洗用水。依據電子元件生產工藝不同，其用水標準中(即GB/T11446.1-1997)有可為四級(一級* 高電導率18MO-CM以上，二級電阻率不低于15MO-CM，3級電阻率12MO-CM, 4級為0.5MO-CM)。
設備特點
電子工業超純水設備通常由多介質過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等構成預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床(EDI電除鹽系統)系統等構成主要設備系統。原水箱、中間水箱、RO純水水箱、超純水水箱均設有液位控制系統、高低壓水泵均設有高低壓壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人值守，同時在工藝選材上采用*和客戶要求相統一的方法，使該設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。
設備流程
1、采用離子交換方式，其流程如下:自來水→電動閥→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵→精密過濾器→陽樹脂床→陰樹脂床→陰陽樹脂混合床→微孔過濾器→用水點
2、采用兩級反滲透方式，其流程如下:自來水→電動閥→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵→精密過濾器→一級反滲透主機→PH調節→混合器→二級反滲透主機(反滲透膜表面帶正電荷)→純水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點
3、采用高效反滲透加EDI方式，其流程如下(* 新工藝):自來水→電動閥→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵→PH值調節系統→高效混合器→精密過濾器→高效反滲透→中間水箱→EDI水泵→EDI系統→微孔過濾器→用水點
應用領域
1、半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路成品、半成品用超純水;
2、超純材料和超純化學試劑勾兌用超純水;
3、實驗室和中試車間用超純水;
4、汽車、家電表面拋光處理;
5、光電子產品;
6、其他高科技精微產品。
