采用平場消色差光學系統和落射式柯拉照明系統，同時在落射照明系統中設計防反射結構，有效防止反射光干擾成像光線，從而使成像更清晰、視場襯度更好

■ 提供穩定可靠的操作機構,使成像更清晰,操作更簡便

■ 顯微鏡鏡體采用全新的人機工程學設計，結構勻稱，實現鏡體擴展

積木化

■ 工作臺、光強與粗微調的低位操作，提高了使用的舒適性

■ 廣泛應用于各類半導體硅晶片檢測、材料科學研究、地質礦物分析及精密工程等學科領域

采用平場消色差光學系統和落射式柯拉照明系統，同時在落射照明系統中設計防反射結構，有效防止反射光干擾成像光線，從而使成像更清晰、視場襯度更好

■ 提供穩定可靠的操作機構,使成像更清晰,操作更簡便

■ 顯微鏡鏡體采用全新的人機工程學設計，結構勻稱，實現鏡體擴展

積木化

■ 工作臺、光強與粗微調的低位操作，提高了使用的舒適性

■ 廣泛應用于各類半導體硅晶片檢測、材料科學研究、地質礦物分析及精密工程等學科領域

采用平場消色差光學系統和落射式柯拉照明系統，同時在落射照明系統中設計防反射結構，有效防止反射光干擾成像光線，從而使成像更清晰、視場襯度更好

■ 提供穩定可靠的操作機構,使成像更清晰,操作更簡便

■ 顯微鏡鏡體采用全新的人機工程學設計，結構勻稱，實現鏡體擴展

積木化

■ 工作臺、光強與粗微調的低位操作，提高了使用的舒適性

■ 廣泛應用于各類半導體硅晶片檢測、材料科學研究、地質礦物分析及精密工程等學科領域