alpha300 RA –在一個系統(tǒng)里面集成化學(xué)成分分析和納米級別的結(jié)構(gòu)成像
alpha300 RA 是高度集成的拉曼原子力顯微鏡系統(tǒng)，可以在標(biāo)準(zhǔn)的Alpha 300R共聚焦拉曼系統(tǒng)上通過標(biāo)準(zhǔn)模塊升級即可完成拉曼原子力系統(tǒng)聯(lián)用，獲得原位的AFM和Raman圖像的疊加。alpha300 RA *的設(shè)計(jì)理念使聯(lián)用系統(tǒng)既保留300R強(qiáng)大的化學(xué)組分分析能力，同時(shí)加入微納級別的表面形貌等特性的分析能力，使研究者能對樣品進(jìn)行深度完善的分析和理解。
alpha300 RA 讓拉曼和原子力兩種互補(bǔ)的技術(shù)得以在一套系統(tǒng)里面實(shí)現(xiàn)，兩種技術(shù)的性能*不受聯(lián)用的影響，而且使用同一個操作軟件，使得操作和分析變得簡單應(yīng)用。拉曼和原子力顯微鏡使用不同的顯微鏡物鏡，只需要簡單轉(zhuǎn)動物鏡轉(zhuǎn)盤，成像軟件即可原位完成兩種技術(shù)的圖像對比，疊加和分析
此外alpha300 RA可進(jìn)一步升級來配合TERS (高分辨拉曼)測量
激光共聚焦顯微拉曼原子力顯微鏡主要特點(diǎn)
l 所有alpha300 R (拉曼) 和alpha300 A (原子力) 的性能集成到一個顯微鏡系統(tǒng)內(nèi)
l 優(yōu)異的原位化學(xué)組分分析（拉曼）和微納級別表面特征分析（原子力）的結(jié)合
l 原子力和拉曼同時(shí)進(jìn)行的選擇
l 嚴(yán)格原位，*不需要在測量過程中移動樣品
l 只需要轉(zhuǎn)動物鏡轉(zhuǎn)盤即可在兩種測量技術(shù)之間簡單切換
激光共聚焦顯微拉曼原子力顯微鏡應(yīng)用實(shí)例
多組分高分子混合物，包含了1:1:1比例的聚苯乙烯（PS），充油丁苯橡膠（SRB）和丙烯酸乙基己酯（EHA）的原位拉曼及原子力圖像對標(biāo)
左邊的拉曼成像: 綠色代表PS, 紅色代表SRB，藍(lán)色代表EHA.
第二至第五張圖像分別是樣品的表面拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)，相位，粘附力和粘度
金剛石壓砧在單晶硅表面的壓痕的應(yīng)力分析，原位拉曼原子力圖像
左圖：10x10um原子力表面拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)和深度輪廓圖，右圖壓痕周邊的應(yīng)力拉曼圖像，紫色為未受應(yīng)力影響，黃色為壓力應(yīng)變，灰色為張力應(yīng)變
性能
通用拉曼操作模式
l 拉曼光譜成像：連續(xù)掃描的拉曼高光譜全譜成像，每個樣品點(diǎn)都能獲得完整的拉曼光譜
l 平面2D和包含深度Z方向的3D成像模式
l 快速和慢速時(shí)間序列
l 單點(diǎn)及Z方向深度掃描
l 光纖耦合的UHTS 系列光譜儀，專為弱光應(yīng)用的拉曼光譜設(shè)計(jì)
l 共聚焦熒光顯微鏡功能
l 明場顯微鏡功能
通用原子力顯微鏡操作模式
l 接觸模式
l AC 模式（輕敲模式）
l 數(shù)字脈沖力模式 (DPFM)
l 抬高模式
l 磁力顯微鏡模式 (MFM)
l 靜電力顯微鏡模式 (EFM)
l 相位成像模式
l 力曲線分析
l 微納操控及微納印刷
l 橫向力模式 (LFM)
l 化學(xué)力模式 (CFM)
l 電流探測模式
l 其他可選
基本顯微鏡指標(biāo)
l 研究級別的光學(xué)顯微鏡，6孔物鏡轉(zhuǎn)盤
l 明場CCD相機(jī)，代替目鏡觀察樣品
l LED明場科勒照明
l 電動XYZ樣品臺，25x25x20mm平移范圍
l 主動隔震平臺
各類拉曼升級選項(xiàng)（如true surface等）
l 多種激光可選擇
l 多種光譜儀可選擇
l 自動共聚焦拉曼成像
l 自動多區(qū)域多點(diǎn)測量
l 可升級超快拉曼圖像模式(需配置EMCCD和Piezo樣品臺，可獲得每秒1300張光譜的速度)
l 可升級落射熒光照明
l 自動聚焦功能
l 顯微鏡觀察法可選，如暗場，像差，偏光，微分干涉等
超高通光量UHTS光譜儀
l 各類透射式波長優(yōu)化譜儀可選 (UV, VIS or NIR)，均為弱光拉曼光譜設(shè)計(jì)
l 光纖耦合，70%超高光通量
l 優(yōu)異的成像質(zhì)量，光譜峰形對稱無像差
控制電腦
WITec控制和數(shù)據(jù)采集，處理軟件
