Saphir Vibro振動拋光機為得到無殘留變形的制備表面而設(shè)計，是用于進一步材料表征，如EBSD（背散射電子衍射），AFM （原子力顯微鏡）分析和納米壓痕或顯微硬度測試的前序設(shè)備。
產(chǎn)品特點
- 可快速更換的帶磁性系統(tǒng)的拋光池
- 從60-120 Hz的自動頻率控制
- “Surface-Guard”功能降低試樣磨料結(jié)晶和試樣表面腐蝕的機率
- 預(yù)先安裝好的制備方案和耗材清單
- 低工作噪音和吸振式結(jié)構(gòu)設(shè)計
- 軟閉合式防護罩和排氣接口
- 可存儲多達200個制備程序
性能參數(shù)
拋光池內(nèi)徑 | 308 mm |
拋光布直徑 | 300 mm / 305 mm (12“) |
接口 | socket (depending on the configuration) · USB · Ethernet |
排氣接口 | Ø 40 mm |
環(huán)境溫度 | 10 - 40 °C |
IP 碼 | IP 22 |
技術(shù)參數(shù)
連接功率 | 0.25 kVA |
驅(qū)動功率 | 135 VA |
電源 | 220-240 V 50/60 Hz (1Ph/N/PE) 100-120 V 50/60 Hz (1Ph/N/PE) |
寬 x高 x 深 | 510 x 300 x 590 mm |
重量 (取決于設(shè)備) | ≈ 45 kg |
