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上海伯東美國(guó)KRi大口徑射頻離子源RFICP 380 實(shí)驗(yàn)室儀器設(shè)備

參考價(jià)	￥ 192000
訂貨量	≥1臺(tái)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱(chēng)伯東企業(yè)（上海）有限公司
品牌其他品牌
型號(hào)
所在地上海市
廠商性質(zhì)代理商
更新時(shí)間2023/4/6 14:20:38
訪問(wèn)次數(shù)673

產(chǎn)品標(biāo)簽:

射頻離子源射頻源輔助鍍膜離子濺射考夫曼源

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上海伯東美國(guó) KRI 大口徑射頻離子源 RFICP 380, 3層?xùn)艠O設(shè)計(jì), 柵極口徑 38cm, 提供離子動(dòng)能 100-1200eV 寬束離子束, 套裝包含離子源本體和電源控制器.

上海伯東美國(guó)KRi大口徑射頻離子源RFICP 380 實(shí)驗(yàn)室儀器設(shè)備產(chǎn)品信息

大口徑射頻離子源 RFICP 380
上海伯東美國(guó) KRi 大口徑射頻離子源 RFICP 380, 3層?xùn)艠O設(shè)計(jì), 柵極口徑 38cm, 提供離子動(dòng)能 100-1200eV 寬束離子束, 離子束流 > 1000mA, 滿(mǎn)足 300 mm (12英寸)晶圓應(yīng)用. 廣泛應(yīng)用于離子束刻蝕機(jī).

KRi 射頻離子源 RFICP 380 特性
1. 放電腔 Discharge Chamber, 無(wú)需電離燈絲, 通過(guò)射頻技術(shù)提供高密度離子, 工藝時(shí)間更長(zhǎng). 2kW & 1.8 MHz, 射頻自動(dòng)匹配
2. 離子源結(jié)構(gòu)模塊化設(shè)計(jì)
3. 離子光學(xué), 自對(duì)準(zhǔn)技術(shù), 準(zhǔn)直光束設(shè)計(jì), 自動(dòng)調(diào)節(jié)技術(shù)保障柵極的使用壽命和可重復(fù)的工藝運(yùn)行
4. 全自動(dòng)控制器
5. 離子束動(dòng)能 100-1200eV
6. 柵極口徑 38cm, 滿(mǎn)足 300 mm (12英寸)晶圓應(yīng)用
射頻離子源 RFICP 380

射頻離子源 RFICP 380 技術(shù)規(guī)格:

陽(yáng)極	電感耦合等離子體 2kW & 1.8 MHz 射頻自動(dòng)匹配
陽(yáng)極功率	>1kW
離子束流	> 1000mA
電壓范圍	100-1500V
離子束動(dòng)能	100-1200eV
氣體	Ar, O2, N2,其他
流量	5-50sccm
壓力	< 0.5mTorr
離子光學(xué), 自對(duì)準(zhǔn)	OptiBeamTM
離子束柵極	38cm Φ
柵極材質(zhì)	鉬
離子束流形狀	平行,聚焦,散射
中和器	LFN 2000
高度	38.1 cm
直徑	58.2 cm
鎖緊安裝法蘭	12”CF

射頻離子源 RFICP 380 基本尺寸:
射頻離子源 RFICP 380

上海伯東美國(guó)考夫曼 KRI 大口徑射頻離子源 RFICP 220, RFICP 380 成功應(yīng)用于 12英寸和 8英寸磁存儲(chǔ)器刻蝕機(jī), 8英寸量產(chǎn)型金屬刻蝕機(jī)中, 實(shí)現(xiàn) 8英寸 IC 制造中的 Al, W 刻蝕工藝, 適用于 IC, 微電子,光電子, MEMS 等領(lǐng)域.

作為蝕刻機(jī)的核心部件, KRI 射頻離子源提供大尺寸, 高能量, 低濃度的離子束, 接受客戶(hù)定制, 單次工藝時(shí)間更長(zhǎng), 滿(mǎn)足各種材料刻蝕需求!
射頻離子源 RFICP 380

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上海伯東: 羅先生