產(chǎn)品簡介：OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜（CSS）爐是一款快速蒸發(fā)管式爐，專門用于PVD或CSS法制作薄膜；其爐管外徑為11″，爐管內(nèi)載樣盤可放置3″ 的圓形或2″×2″的方形基片；OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜（CSS）爐加熱元件為兩組紅外燈管，分別安裝在腔體頂端和底部，升溫速率高達20℃/s ，可迅速使爐腔內(nèi)溫度升高；冷卻速率：>10℃/s，可在鍍膜后使樣品快速降溫；溫控系統(tǒng)采用PID30段程序化控制，控溫精度為±1℃，并且儀器面板上帶有RS485接口，若儀表內(nèi)配有控溫軟件，就可將升溫程序和曲線導出。
產(chǎn)品型號 | OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜（CSS）爐 |
| 安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設(shè)備需選配自循環(huán)冷卻水機（加注純凈水或者去離子水） 2、電：AC220V 50Hz（20A空氣開關(guān)），必須有良好接地 3、氣：設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣（純度99.99%以上），需自備氬氣氣瓶（自帶Ø6mm雙卡套接頭） 4、工作臺：設(shè)備為落地式，占地面積1m2以上 5、通風裝置：需要 |
主要特點 | 1、為了減小熱輻射和達到快速冷卻的效果，加熱元件被嵌在水冷機構(gòu)上。 2、緊貼頂部加熱元件上裝有一氮化鋁基片（Ø76mm×0.5mm），使得樣品基片上的溫度更加均勻。 3、3″的石墨坩堝可放于底部加熱元件上，用于盛放蒸發(fā)料。 4、真空法蘭通過兩個硅膠O型圈進行密封，通過機械泵其腔內(nèi)真空度可達10-2torr，通過分子泵真空度可達10-5 torr。 5、兩個真空法蘭都可以通過手動操作進行上下移動。 6、一個數(shù)字式真空顯示計安裝在法蘭頂部，可以精確測量腔內(nèi)真空度。 |
技術(shù)參數(shù) | 1、電源：單相AC208V-240V（需20A的空氣開關(guān)） 2、真空腔體：高純石英管，外徑280mm，內(nèi)徑275mm，高229mm 3、加熱元件：兩組IR紅外燈管，額定功率800W，總功率1600W 4、熱電偶：S型熱電偶2個，分別安裝于上下法蘭上 5、工作溫度：兩個加熱區(qū)域單獨工作溫度≤650℃，兩加熱區(qū)域大溫差≤350℃ 6、加熱速率：>8℃/s 7、冷卻速率：>10℃/s（600℃-100℃） 8、真空法蘭：316不銹鋼制作，配有1個KF-25接口、2個1/4″軟管接頭 9、真空計：數(shù)字式真空顯示計 |
可選配件 | 1、PC控溫軟件 2、兩路混氣系統(tǒng) 3、多路浮子混氣系統(tǒng) 4、多路質(zhì)子混氣系統(tǒng) 5、真空泵 6、水冷機 |
