產品簡介：450型電子束蒸發鍍膜系統用于制備導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜等，廣泛應用于大專院校、科研機構的科研及小批量生產。
產品型號 | 450型電子束蒸發鍍膜系統 |
技術參數 | 系統主要由蒸發真空室、E型電子槍、熱蒸發電極、旋轉基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、真空測量、電控系統及安裝機臺等部分組成。 技術指標： 極限真空度：≤6.7×10 Pa 恢復真空時間：從1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min 系統漏率：6. 7×10-7Pa.L/S； 真空室：真空室500x500 x600mm采用U型箱體前開門，后置抽氣系統e型電子槍：陽極電壓：6kv、8kv(1套) 坩堝：水冷式坩堝，四穴設計，每個容量11ml 功率：0-6KW可調 電阻蒸發源(可選) 電壓：5、10V 功率：電流300A，大輸出功率3Kw1套，可切換水冷電 極3根，組成2個蒸發舟 基片尺寸：可放置4″基片 樣品臺：基片可連續回轉，轉速5-60轉/分基片與蒸發源之間距離300-350mm加溫度 800°C±1°C，可調手動控制樣品擋板組件1套 氣路系統：質量流量控制器1路 石英晶振膜厚控制儀：監測膜厚顯示范圍：0-99μ9999Å |
