產品簡介：VTC-16-SM小型高能直流磁控濺射儀是一款桌面式等離子磁控濺射鍍膜儀，包含一個2英寸水冷靶頭（另有1英寸靶頭可選）和可旋轉樣品臺。水冷靶頭使鍍膜后的樣品表面不會因鍍膜溫度過高而變形，甚至損壞樣品；樣品臺可旋轉，可以使樣品邊旋轉邊鍍膜，使鍍膜后的樣品表面膜厚均勻。設備外形小巧，性價比高，是制作各種金屬薄膜理想的鍍膜設備，可選配各種金屬靶材和真空泵搭配設備使用。VTC-16-SM小型高能直流磁控濺射儀采用PLC控制面板對設備進行控制，操作方便直觀。
VTC-16-SM小型高能直流磁控濺射儀操作視頻
產品型號 | VTC-16-SM小型高能直流磁控濺射儀 |
技術參數 | 1、輸入電源：220VAC 50/60Hz 2、濺射電流：0-150 mA可調 3、功率：＜2KW 4、輸出電壓：1600VDC（max） 5、濺射腔體 （1）.采用石英腔體，尺寸：166mm OD x 150mm ID x 290mm H （2）.密封：采用O形密封圈密封 6、濺射頭&樣品臺 （1）.二英寸帶水冷的磁控濺射頭（注意：水冷機不是標配）另有1英寸靶頭可選 （2）.一個直徑50mm不銹鋼樣品臺，樣品臺可旋轉，旋轉速率0-5 RPM （3）.安裝有一可手動操作的濺射擋板 （4）.樣品臺和靶頭之間的距離可以調節，調節范圍：30-80mm （5）.靶頭支架，可以在非濺射狀態放置濺射靶頭 （6）.濺射面積：4英寸（max） 7、控制面板 6" PLC集成觸摸屏控制面板，可控制真空、電流、靶材位置和基片加熱溫度 8、真空系統 （1）安裝有KF25真空接口 （2）數字真空壓力表（Pa） （3）此系統運行需要Ar氣，并且氣瓶上安裝有減壓閥（設備中不包含） （4）采用機械泵 <1.0E-2 Torr （5）采用渦旋分子泵 <1.0E-5 Torr （6）可在本公司選購各種真空泵 9、進氣 含一個控制進氣的針閥和一個放氣閥，本設備接氣需要安裝減壓閥 10、靶材 （1）靶材尺寸要求：Φ50mmx(0.1-2.5) mm(厚度) （2）適合濺射Au,Ag,Cu,Al,Ti,等金屬（可在我公司選購）
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產品規格 | 1、產品外型尺寸：（L）460 mm × （W）330 mm × （H）520 mm 2、凈重：20 kg（不包含泵及水冷機） |
可選配件 | 薄膜測厚儀 加熱樣品臺 浮子流量計 |
