稀釋擴散法
原理：將有臭味地氣體通過煙囪排至大氣，或用無臭空氣稀釋，降低惡臭物質濃度以減少臭味。適用范圍：適用于處理中、低濃度的有組織排放的惡臭氣體。優點：費用低、設備簡單。缺點：易受氣象條件限制，惡臭物質依然存在。
橡膠廢氣處理設備廠家
對于采用客土稀釋方式進行修復的場地，需要控制重金屬的下滲，對地下水的污染。電動力學修復，是將污染物濃縮在陰極或者陽極附近，通過泵將污染水體抽出，經過處理后再補充地下水，土壤中污染物便通過這種方式被洗滌出來。該技術只能處理溶解在水中的重金屬離子；而對土壤中眾多不溶解的重金屬，則需通過調整土壤pH呈酸性或者加入大量的有機螯合劑以使重金屬離子溶解進入水溶液。劉陽生介紹，該修復法由于技術復雜、受土壤環境的影響較大，成本也相對較高，目前尚處于實驗室研究階段。
水吸收法
原理：利用臭氣中某些物質易溶于水的特性，使臭氣成分直接與水接觸，從而溶解于水達到脫臭目的。適用范圍：水溶性、有組織排放源的惡臭氣體。優點：工藝簡單，管理方便，設備運轉費用低 產生二次污染，需對洗滌液進行處理。缺點：凈化效率低，應與其他技術聯合使用，對硫醇，脂肪酸等處理效果差。
曝氣式脫臭法
原理：將惡臭物質以曝氣形式分散到含活性污泥的混和液中，通過懸浮生長的微生物降解惡臭物質 適用范圍廣。適用范圍：截至2013年，日本已用于糞便處理場、污水處理廠的臭氣處理。優點：活性污泥經過馴化后，對不超過極限負荷量的惡臭成分，去除率可達99.5%以上。缺點：受到曝氣強度的限制，該法的應用還有一定局限。
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c為電荷分離率，即注入到TiO2導帶中的電子有可能與膜內的雜質復合或以其他方式消耗：激發態的染料分子與TiO2導帶中的電子重新復合；電解液中的I3-在光陽極上就被TiO2導帶中的電子還原；所激發的染料分子直接與表面敏化劑分子復合。在整個過程中，各反應物總狀態不變，只是光能轉化為電能。電池的開路電壓(Voc)取決于*的費米能級(Efermi)TiO2和電解質中氧化還原電勢的能斯特電勢差(ER/R-)，用公式可表示為Voc=1/q[Efermi)TiO2-ER/R-]，其中q為完成一個氧化還原過程所需電子數。
催化氧化工藝
原理：反應塔內裝填特制的固態填料，填料內部復配多介質催化劑。當惡臭氣體在引風機的作用下穿過填料層，與通過特制噴嘴呈發散霧狀噴出的液相復配氧化劑在固相填料表面充分接觸，并在多介質催化劑的催化作用下，惡臭氣體中的污染因子被充分分解。適用范圍：適用范圍廣，尤其適用于處理大氣量、中高濃度的廢氣，對疏水性污染物質有很好的去除率。優點：占地小，投資低，運行成本低；管理方便，即開即用。缺點：耐沖擊負荷，不易污染物濃度及溫度變化影響，需消耗一定量的藥劑。
低溫等離子體
低溫等離子體是繼固態、液態、氣態之后的物質第四態，當外加電壓達到氣體的著火電壓時，氣體分子被擊穿，產生包括電子、各種離子、原子和自由基在內的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個體系呈現低溫狀態，所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時間內發生分解，并發生后續的各種反應以達到降解污染物的目的。
低溫等離子體空氣凈化設備能夠顯著治理的污染有：VOC、惡臭氣體、異味氣體、油煙、粉塵，也可用于消毒殺菌。低溫等離子體技術是一種全新的凈化過程，不需要任何添加劑、不產生廢水、廢渣，不會導致二次污染。
試驗研究表明，在條件下運行時藥品的實際投加量接近與理論計算值。污水中殘存H2O2的終將分解為水和氧氣，而不會和其中的有機物形成一些對人體有害的物質。這可以對水中溶解氧含量的監測得到證實，水中溶解氧的增量與過量的H2O2之間遵循化學計量關系：1gH2O2將生成.5g溶解氧。污水處理廠中試處理效果該污水處理廠是一座二級處理廠，處理能力約為164*14m3/d。該廠采用強化初沉(FeCl3和陰離子聚合物)的措施以限度地去除BOD。2.1.2第二步中和沉淀處理工藝條件：由pH自控裝置控制硫酸加人量至pH8.5-9.，并按每廢水計自動加人3-4mg/1#絮凝劑。由于在前-步的弱堿性介質中有-部分混凝劑保留在溶液中，所以這時不需補加混凝劑。混勻反應后，廢水經過有蜂窩狀沉淀斜管的池加速沉降。經二步沉淀后，上清液基本無色透明，pH7.5-8.6，Ni.1mg/L，Zn1.1mg/L，再經微濾機就能保證各項指標都合格排放了。
保溫層塊料保溫層施工、平鋪時，板狀保溫材料應緊靠在基層表面上，鋪平墊段板間縫隙應采用同類材料嵌填密實。整體現澆保溫層施工：整體現澆保溫層鋪設時按圖紙提供的坡度，定出各處厚度點，表面應平整，并達到規定的強度和密度，壓實程度應根據試驗確定，不過分壓實，以免降低保溫效果。施工時應注意以下幾點：按設計的要求配制配；采用人工攪拌，攪拌時要攪拌均勻，色澤一致，稠度以手捏成團、落地開花為準，材料應隨抹隨鋪；鋪抹時應分倉鋪抹，每倉高設79mm。
