低溫等離子＋UV光解除臭一體機分為紫外線光解和等離子分解兩個區(qū)，惡臭氣體先經(jīng)UV紫外線光解區(qū)再到等離子分解區(qū)，經(jīng)多級凈化后達標(biāo)排出。 UV紫外線光解區(qū)：利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體，改變惡臭氣體，如氨、硫化氫VOC類、苯的分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。再分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧。因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進而產(chǎn)生臭氧。*，臭氧對有機物具有*的氧化作用，對惡臭氣體及其它感激性異味有清除效果。有機惡嗅氣體通過本區(qū)后，凈化運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸（DNA），再通過臭氧氧化反應(yīng)。 低溫等離子UV光解區(qū)：采用了*的吸附-分解-碳化工藝技術(shù)設(shè)計，無需再生處理原料，無需專人負責(zé)，不產(chǎn)生二次污染。采用脈沖高壓高頻等離子體電源和齒板放電裝置，使其產(chǎn)生高強度、高濃度、高電能的活性自由基，在毫秒級的時間內(nèi)，瞬間對經(jīng)過UV光解區(qū)進入等離子分解區(qū)的氣體內(nèi)殘留的有害分子進行氧化還原反應(yīng)，將廢氣中的污染物降解成二氧化碳和水及易處理的物質(zhì)。利用催化氧化劑的強氧化性和高吸附性，持續(xù)地對等離子體未處理盡的污染物和生成的物質(zhì)進行催化氧化反應(yīng)，使有害廢氣經(jīng)多級凈化后終達標(biāo)排放。光化學(xué)技術(shù)原理 光化學(xué)技術(shù)綜合利用了高強輻照場對惡臭物質(zhì)的破壞作用和氧對惡臭物質(zhì)的氧化去除作用，來去除惡臭氣體中的硫化氫、氨、甲硫醇、芳香烴等VOC（揮發(fā)性有機物）。惡臭氣體分子在輻照射線的作用下，物質(zhì)分子的能態(tài)發(fā)生了改變，即分子的轉(zhuǎn)動、振動、電子能級發(fā)生變化，由低能態(tài)被激發(fā)至高能態(tài)，并利用了氧在強輻照下分解所產(chǎn)生的活潑的次生氧化劑來氧化這些有害物質(zhì)，輻照場和氧一道，存在著一個協(xié)同作用，這種協(xié)同作用使該技術(shù)對惡臭去除的速率得到數(shù)量級的增加。四種方案一次性投資成本相差不大，低溫等離子＋UV光解除臭一體機與生物法一次性投資成本大致相當(dāng)（略低），化學(xué)藥劑洗滌法偏低，催化焚燒法的投資成本高。技術(shù)特點與優(yōu)勢 設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小，安裝簡單。 友好的人機界面、智能化的控制，操作和維護簡便易行。 留有計算機接口，方便聯(lián)入中控室統(tǒng)一控制、操作。 可與設(shè)備聯(lián)動，只需運行設(shè)備，除異味裝置即可聯(lián)動。 一次性投資，資金適中。 設(shè)備功耗低，運行時只需電和少量的水；運行費用極低。 設(shè)備可以靈活組合，根據(jù)不同廢氣進行不同的組合。 處理后的終產(chǎn)物為二氧化碳和水，無二次污染。適用行業(yè)及范圍 噴漆車間、油墨印刷、噴涂車間、化工、、橡膠、食品、印染、釀造、造紙、煉油廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運站等產(chǎn)生的有毒有害惡臭廢氣體