光氧廢氣處理設備從理論上講，只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發產生電子和空穴，該半導體就有可能用作光催化劑,常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優點，具體研究中可根據需要選用，如CdS半導體帶隙能較小，跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發生光腐蝕，使用壽命有限。相對而言，Ti02的綜合性能較好，是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。
光氧廢氣處理設備
低溫等離子體是繼固態、液態、氣態之后的物質第四態，當外加電壓達到氣體的著火電壓時，氣體分子被擊穿，產生包括電子、各種離子、原子和自由基在內的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個體系呈現低溫狀態，所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時間內發生分解，并發生后續的各種反應以達到降解污染物的目的。
低溫等離子體空氣凈化設備能夠顯著治理的污染有：VOC、惡臭氣體、異味氣體、油煙、粉塵，也可用于消毒殺菌。低溫等離子體技術是一種全新的凈化過程，不需要任何添加劑、不產生廢水、廢渣，不會導致二次污染, 適用場所：① 污水處理廠預處理、生化處理、污泥處理過程惡臭氣體的凈化和治理。② 垃圾處理過程中的堆放、分揀、堆肥、填埋、焚燒以及垃圾滲濾液污水處理站惡臭氣體的凈化和治理。③ 涂料與噴漆、煉焦、制藥、橡膠塑料、印染皮革、有機染料及合成材料廠和發酵制藥、石油化工、制鞋廠、印刷廠、造紙廠、畜牧養殖、飼料加工、糞便處理等惡臭氣體凈化和治理。
