改質(zhì)到清洗的小型臺式等離子清洗機。
半導(dǎo)體制造中的光刻膠剝離或表面殘留物去除、印刷電路板的干式清洗、光學(xué)/金屬/機械等精密部件的清洗、提高各種材料的粘接性、塑料封裝前處理、表面改質(zhì)處理、灰化、蝕刻處理、界面活性處理、促進(jìn)種子發(fā)牙等。
小型臺式等離子清洗機適用行業(yè)
高校、電子、半導(dǎo)體、光學(xué)、生物、醫(yī)藥、FPD平板顯示器、新材料、LED、農(nóng)業(yè)。
● 硅晶圓的灰化及蝕刻
● 基板表面污垢處理
● IC/LED封裝、BGA/CSP基板處理
● 半導(dǎo)體相關(guān)部品的電子材料的干式清洗
● 自然氧化膜·有機物去除
● 界面活性處理
● 表面污染物去除。
等離子清洗機廣泛用于1、等離子表面活化/清洗2、等離子處理后粘合3、等離子蝕刻/活化4、等離子去膠;5、等離子涂鍍(親水,疏水)6、增強邦定性7、等離子涂覆8、等離子灰化和表面改性等場合通過其處理，能夠改善材料表面的浸潤能力，使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、鍍等操作，增強粘合力、鍵合力，同時去除有機污染物、油污或油脂
plasma等離子清洗機設(shè)備廣泛應(yīng)用于刻蝕、脫膠、涂層、灰度、等離子體表面處理。通過表面處理，可以提高材料表面的潤濕性，從而提高材料的涂層等性能，增強材料的附著力、粘結(jié)力和去除有機污染物。
等離子清洗機(plasma cleaner)也叫等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來達(dá)到常規(guī)清洗方法無法達(dá)到的效果。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實現(xiàn)清潔、改性、涂覆、光刻膠灰化等目的。
