射流型大氣低溫等離子處理機由等離子發生器、氣體輸送系統及等離子噴頭等部分組成。RF射頻作為激發能源，工作頻率13.56MHZ，等離子發生器產生高壓高頻能量在噴嘴鋼管中被激活和被控制的輝光放電中產生了低溫等離子體，借助壓縮空氣將等離子體噴向工件表面，當等離子體與被處理物體表面相遇時，產生了化學作用和物理變化，表面得到了清潔，去除了碳化氫類污物，如油脂、輔助添加劑等，根據材料成分，其表面分子鏈結構得到了改變。建立了羥基、羧基等自由基團，這些基團對各種涂敷材料具有促進其粘合的作用，在粘合和油漆應用時得到了優化。在同樣效果下，應用等離子體處理表面可以得到非常薄的高張力涂層表面，不需其他機械、化學處理等任何強烈作用成分來增加粘合性。

• 常壓射流等離子表面處理機設備產品特點

• 可用于大氣壓在線式等離子表面處理。-  方案環保，改善制程良率，有效降低生產成本。
  可用于玻璃、薄膜、PCB板、液晶屏的多種材質的表面處理。- 降低氣耗與功耗（占常規方案消耗量的1/20～1/30）- 不會造成二次污染的環保等離子。

●  改變表面增加粘接
●  微清潔表面以提高粘合劑的表面濕潤性
●  建立自由基團以改變表面能
●  提高親水性和疏水性能
陶瓷、聚合物、彈性體、玻璃和金屬等等都適合使用等離子處理設備。實際上，等離子處理通過了解決因粘接、油墨、噴涂等不良問題，大大提高了產品合格率。

微波等離子去膠機去除光刻膠是超精細環保清洗、表面性能活化和等離子鍍膜的關鍵技術。等離子處理機英文叫（plasmacleaner）又稱等離子清洗機，等離子表面改性設備,電漿清潔機,等離子表面處理機,等離子體表面處理設備,等離子蝕刻機,等離子清洗器,等離子清洗儀，等離子體材料表面改性處理設備，等離子體表面改性產品。等離子處理（plasmacleaner）廣泛用于等離子清洗,刻蝕,等離子鍍,等離子涂覆,等離子灰化和表面改性。

微波等離子去膠機去除光刻膠在完成清洗去污的同時，還可以改善材料本身的表面性能。如提高表面潤濕性能，提高油墨、涂層、鍍層附著力,增強材料表面能、親水性.......

等離子清洗機等離子體是低溫中性，不損傷處理產品表面電路；芯片與封裝基板的粘接，往往是兩種不同性質的材料，材料表面通常呈現為疏水性和隋性特征，其表面粘接性能較差，粘接過程中界面容易產  生空隙，給密封封裝后的芯片帶來很大的隱患，對芯片與封裝基板的表面進行等離子體處理能有效增加其表面活性，極大的改善粘接環氧樹脂在其表面的流動性，提高芯片和封裝基板的粘結浸潤性，減少芯片與基板的分層，改善熱傳導能力，提高IC封裝的可靠性穩定性，增加產品的壽命。  

等離子清洗機的表面活化作用：生物材料的表面修飾，電線電纜表面噴碼，塑料表面涂覆，金屬基材的表面清潔活化，印刷涂布或粘接前的表面處理。粘接、錫焊、電鍍前的表面處理